[发明专利]粘晶方法及其装置

权利要求书

1.一种粘晶方法，其特征在于，其步骤包含有：

将一基板加热至一预定温度；

吸取至少一晶粒；

将该至少一晶粒固晶于该基板；

冷却已固晶的基板；以及

将该已固晶的基板移至一上下料位置，加热另一基板至该预定温度，并重复上述的步骤。

2.如权利要求1所述的粘晶方法，其中该预定温度为85至200℃。

3.如权利要求1所述的粘晶方法，其中该基板被一基板加热及冷却单元加热至该预定温度，并且该基板被该基板加热及冷却单元所冷却。

4.如权利要求1所述的粘晶方法，其中该至少一晶粒由一晶粒供应单元所提供。

5.如权利要求4所述的粘晶方法，其中该晶粒供应单元可供一具有多个晶粒的晶圆设置，该晶粒供应单元能够选择性将该晶圆转动一角度，该晶粒供应单元能选择性将该晶圆沿着一X轴向或一Y轴向移动一距离。

6.如权利要求1所述的粘晶方法，其中该至少一晶粒的吸取与固晶由一固晶单元所执行。

7.如权利要求1所述的粘晶方法，其特征在于，其进一步具有一第一视觉模块拍摄该至少一晶粒的影像，以供吸取该至少一晶粒。

8.如权利要求7所述的粘晶方法，其中该第一视觉模块拍摄该基板的影像，以补正该至少一晶粒的位置与该基板的位置。

9.如权利要求1所述的粘晶方法，其特征在于，其进一步具有一第二视觉模块由下往上拍摄该至少一晶粒的影像，以调整该至少一晶粒的位置。

10.一种粘晶装置，其特征在于，其包含有：

一基台；

一晶粒供应单元，其设于该基台的一端；

一基板加热及冷却单元，其设于该基台的另一端；以及

一固晶单元，其设于该基台的顶端，并且能够于该晶粒供应单元与该基板加热及冷却单元之间移动。

11.如权利要求10所述的粘晶装置，其中该基板加热及冷却单元具有至少一控温模块与至少一Y轴向移动模块，该控温模块设于该Y轴向移动模块。

12.如权利要求11所述的粘晶装置，其中该控温模块具有一附加电路板、一恒温板与一温度传感器，该附加电路板具有至少一冷却液流入管、至少一冷却液流出管、至少一加热管，该温度传感器设于该附加电路板与该恒温板之间，该恒温板具有至少一恒温液入管与一恒温液出管。

13.如权利要求12所述的粘晶装置，其中该控温模块进一步具有至少一支撑座，该至少一支撑座设于该附加电路板与该恒温板之间，该附加电路板的底部进一步具有一隔热板。

14.如权利要求10所述的粘晶装置，其中该固晶单元具有一固晶单元Y轴向移动模块、一取放固晶模块、一取放固晶模块Z轴向对位模块与一取放固晶模块X轴向移动模块，该固晶单元Y轴向移动模块设于该基台的两侧，该取放固晶模块Z轴向对位模块耦接该取放固晶模块，该取放固晶模块X轴向移动模块耦接该取放固晶模块与该固晶单元Y轴向移动模块。

15.如权利要求14所述的粘晶装置，其中该取放固晶模块具有多个晶粒吸嘴、多个角度对位模块、多个真空吸放转接器与多个可调整加压模块，各晶粒吸嘴耦接各角度对位模块，各真空吸放转接器耦接各晶粒吸嘴，各可调整加压模块耦接各真空吸放转接器。

16.如权利要求10所述的粘晶装置，其特征在于，其进一步具有一第一视觉模块设于该取放固晶模块。

17.如权利要求10所述的粘晶装置，其特征在于，其进一步具有一第二视觉模块，其设于该基台的顶端，并且位于该晶粒供应单元与该基板加热及冷却单元之间。

18.如权利要求10所述的粘晶装置，其中该晶粒供应单元具有一晶圆工作台与一晶粒顶出模块，该晶粒顶出模块设于该晶圆工作台的底端。

19.如权利要求18所述的粘晶装置，其中该晶圆工作台具有一晶圆盘载台、一旋转模块、一工作台X轴向移动单元与一工作台Y轴向移动单元，该晶圆盘载台设于该旋转模块的顶端，该工作台X轴向移动单元与该工作台Y轴向移动单元设于该晶圆盘载台的底端。