[发明专利]PCB的盲孔制作方法在审
| 申请号: | 201210397239.8 | 申请日: | 2012-10-18 |
| 公开(公告)号: | CN103781293A | 公开(公告)日: | 2014-05-07 |
| 发明(设计)人: | 唐国梁 | 申请(专利权)人: | 北大方正集团有限公司;重庆方正高密电子有限公司 |
| 主分类号: | H05K3/42 | 分类号: | H05K3/42;H05K3/46 |
| 代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐 |
| 地址: | 100871 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | pcb 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及PCB制造领域,具体而言,涉及一种PCB的盲孔制作方法。
背景技术
盲孔(Blind Via)是连接表层和内层而不贯通整板的导通孔,通常采用激光钻孔、等离子蚀孔和光致成孔后再进行金属化。PCB盲孔制作方法有很多,如需要制作叠孔型的多阶盲孔,或需要直接在外层盲孔上焊接元器件,则需要对盲孔进行电镀填铜制作;但盲孔电镀填铜品质影响因素很多,良率不高;而且填铜不能做到铜面的完全平整,在盲孔上方会有一定的凹陷,在制作叠孔时容易出现连接失效、或空洞等品质问题,另外如盲孔上的凹陷过大对元器件焊接的可靠性也有一定影响。
发明内容
本发明旨在提供一种PCB盲孔的制作方法和PCB在制板,以解决上述问题。
在本发明的实施例中,提供了一阶盲孔的制作方法,包括:
以具有一定厚度的金属层作为第一金属层;
在第一金属层表面制作蚀刻阻剂图形;
进行蚀刻制作,在第一层金属层的表面形成一个或多个金属柱,金属柱的高度小于第一金属层厚度;
在蚀刻后的第一金属层上制作介质层;
在所述介质层的表面形成与所述金属柱连接的第二金属层;
在第一金属层或第二金属层上制作线路;
与其它子板进行压合成多层板;制作多层板的外层线路。
优选地,采用化学沉积或电镀方式在一载体上形成所需要厚度的第一金属层。
优选地,采用涂覆树脂、压制半固化片或绝缘材料的方式在第一金属层上制作介质层;并采用研磨/磨刷的方式使金属柱上表面裸露出来,以确保能够与后续制作的第二金属层相连接。
优选地,还包括:在所述第一金属层和/或所述第二金属层的表面蚀刻线路图形。
本发明的实施例,提供一种盲孔的制作方法,包含:
在一载体上形成具有一定厚度的金属层作为第一金属层;
在第一金属层表面制作蚀刻阻剂图形;
进行蚀刻制作,在第一层金属层的表面形成一个或多个金属柱,金属柱的高度小于第一金属层厚度;
在蚀刻后的金属层上制作蚀刻阻剂,使用电镀锡的方式将金属柱包覆;
退除蚀刻阻剂,蚀刻,退除电镀锡层;
在蚀刻后的第一金属层上制作介质层;
在所述介质层的表面形成与所述金属柱连接的第二金属层;
在第二金属层上制作线路;
移除载体后,与其它子板进行压合成多层板;制作多层板的外层线路。
本发明的实施例,还提供二阶及以上盲孔的制作方法,包含:
以具有一定厚度的金属层作为第一金属层;
在第一金属层表面制作蚀刻阻剂图形;
进行蚀刻制作,在第一层金属层的表面形成一个或多个金属柱,
金属柱的高度小于第一金属层厚度;
在蚀刻后的第一金属层上制作介质层;
在所述介质层的表面形成与所述金属柱连接的第二金属层;
电镀增厚第一或第二金属层厚度,或同时增厚两金属层厚度;
在增厚的金属层表面制作蚀刻阻剂图形;
进行蚀刻制作,形成一个或多个金属柱,金属柱的高度小于金属层厚度;
在蚀刻后的金属层上制作蚀刻阻剂;
使用电镀锡的方式将金属柱包覆;
退除蚀刻阻剂,蚀刻;
退除电镀锡层,形成二阶或三阶盲孔;
重复在蚀刻后的第一金属层上制作介质层到—在蚀刻后的金属层上制作蚀刻阻剂的步骤,可制作多阶盲孔。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解,构成本申请的一部分,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1示出了实施例一的流程图;
图2示出了实施例一将形成的一阶盲孔作为外层的PCB制作的流程图;
图3示出了实施例中采用的金属层的示意图;
图4示出了实施例中在载体层上形成金属层的示意图;
图5示出了实施例中在金属层表面形成的金属柱的蚀刻阻剂的图形;
图6示出了实施例中在第一金属层表面蚀刻的金属柱的示意图;
图7示出了实施例中在第一金属层表面覆盖介质层后的PCB的示意图;
图8示出了实施例中磨刷工艺后的PCB的示意图;
图9示出了实施例中在介质层表面覆盖第二金属层的PCB的示意图;
图10示出了实施例中在第二金属层表面蚀刻电路图形后的PCB的示意图;
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