[发明专利]固态成像装置和其制造方法以及成像单元

权利要求书

1.一种固态成像装置，包括：

感光单元，其通过执行入射光的光电转换而产生信号电荷；

在所述感光单元附近的导电材料；

第一遮光膜，其形成以覆盖所述导电材料的至少一部分；以及

第二遮光膜，其形成在所述第一遮光膜的表面的一部分或者全部上，并且所述第二遮光膜与所述第一遮光膜电接触，

其中，所述第一遮光膜直接形成在所述导电材料的表面上，

其中，所述第一遮光膜和所述第二遮光膜由具有导电性的构件形成，以及

当驱动所述固态成像装置时，电压经由所述第一遮光膜和所述第二遮光膜而施加到所述导电材料。

2.根据权利要求1所述的固态成像装置，

其中，所述导电材料是转移电极，当读出蓄积在所述感光单元中的所述信号电荷时，所述电压施加到所述转移电极。

3.根据权利要求2所述的固态成像装置，

其中，所述第二遮光膜形成为使得所述第二遮光膜在所述导电材料和所述导电材料附近的所述感光单元之间排列方向上的宽度比所述第一遮光膜在所述方向上的宽度窄。

4.根据权利要求3所述的固态成像装置，

其中，在所述第一遮光膜的所述感光单元侧的侧面，以侧壁形状形成所述第二遮光膜。

5.根据权利要求1所述的固态成像装置，

其中，所述导电材料由多晶硅形成，并且所述第一遮光膜和所述第二遮光膜由钨形成。

6.一种固态成像装置的制造方法，包括以下步骤：

形成第一遮光膜，所述第一遮光膜覆盖布置在感光单元附近的导电材料的至少一部分，所述感光单元通过对入射光执行光电转换而产生信号电荷；并且

在所述第一遮光膜的表面的一部分或者全部上形成第二遮光膜，并且所述第二遮光膜与所述第一遮光膜电接触，

其中，所述第一遮光膜直接形成在所述导电材料的表面上，

其中，所述第一遮光膜和所述第二遮光膜由具有导电性的构件形成，以及

当驱动所述固态成像装置时，电压经由所述第一遮光膜和所述第二遮光膜而施加到所述导电材料。

7.一种成像单元，其包括：

感光单元，其通过对来自物体的入射光执行光电转换而产生信号电荷；

光学系统，其将来自所述物体的光引导到所述感光单元；

所述感光单元附近的导电材料；

第一遮光膜，其形成以覆盖所述导电材料的至少一部分；以及

第二遮光膜，其形成在所述第一遮光膜的表面的一部分或者全部上，并且所述第二遮光膜与所述第一遮光膜电接触，

其中，所述第一遮光膜直接形成在所述导电材料的表面上，

其中，所述第一遮光膜和所述第二遮光膜由具有导电性的构件形成，以及

当驱动所述成像单元时，电压经由所述第一遮光膜和所述第二遮光膜而施加到所述导电材料。