[发明专利]涂布处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种对被处理基板涂布处理液的涂布处理装置，尤其是涉及一种可缩短处理动作的节拍时间、且可防止因喷嘴的维护处理而导致的被处理基板的污染的涂布处理装置。

背景技术

例如，在FPD(Flat Panel Display，平板显示器)的制造中，利用所谓的光刻步骤而形成电路图案。

在该光刻步骤中，在玻璃基板等被处理基板上形成特定的膜后，涂布作为处理液的光阻剂(以下称为抗蚀剂)而形成抗蚀膜(感光膜)。而且，与电路图案对应地曝光所述抗蚀膜，且进行显影处理，而形成图案。

在这样的光刻步骤中，作为对被处理基板涂布抗蚀剂液来形成抗蚀膜的方法，有从狭缝状的喷嘴喷出口带状地喷出抗蚀剂液而将抗蚀剂涂布至基板上的方法。

利用图11对使用该方法的现有的抗蚀剂涂布装置简单地进行说明。图11所示的抗蚀剂涂布装置200包括沿X方向延设得较长的平台201、配备在该平台201的上方的抗蚀剂供给喷嘴202、及使该抗蚀剂供给喷嘴202移动的喷嘴移动机构203。

在所述平台201的上表面设置着多个气体喷射口210及气体抽吸口211。基板G是利用从气体喷射口210喷射出的气体、或从气体抽吸口211抽吸所述被喷射的气体而形成的气流浮到平台上。

而且，在抗蚀剂供给喷嘴202处设置着具有沿基板的宽度方向延伸的微小间隙的狭缝状的喷出口202a，且从喷出口202a喷出由抗蚀剂液供给源204供给的抗蚀剂液。

而且，浮到平台201上的基板G的左右两侧由一对基板搬送部205保持，基板搬送部205可沿铺设在平台201的左右两侧的一对轨道206(X方向)移动。

而且，在平台201上的基板搬入区域201a及基板搬出区域201b中分别设置着多根(图中为4根)可升降的起模顶杆(lift pin)207，在对该抗蚀剂涂布装置200搬入搬出基板G时，将基板G暂时载置在起模顶杆207上。

在以如上方式构成的抗蚀剂涂布装置200中，对基板G进行的抗蚀剂液的涂布处理是以如下方式进行。

首先，在基板搬入区域201a，起模顶杆207向上方突出，利用搬送机器人的臂(未图示)，将涂布处理前的基板G载置在所述起模顶杆207上。

其次，利用基板搬送部205保持基板G的左右边缘部。此处，从气体喷射口210对基板G的下表面喷射气体，从而基板G成为浮到平台201上的状态。

而且，如果起模顶杆207下降，那么利用基板搬送部205而使基板G移动至基板处理区域201c。

在基板处理区域201c中，以特定的速度沿X方向搬送基板G。与此相对，配置在基板上方的抗蚀剂供给喷嘴202是利用喷嘴移动机构203而朝与基板搬送方向相反的方向移动，与此同时，对基板面喷出抗蚀剂液。另外，在该基板处理区域201c中，从气体喷射口210喷射出的气体经气体抽吸口211抽吸而在平台上形成特定的气流，基板G在稳定的状态下浮到该气流上，而得到搬送。

在基板上形成着抗蚀膜的基板G由基板搬送部205搬送至基板搬出区域201b，在基板搬出区域201b，起模顶杆207上升，并且停止从气体喷射口210喷射气体。而且，基板G在基板搬出区域201b中由起模顶杆207支撑，而解除利用基板搬送部205的保持状态。

而且，形成着抗蚀膜的基板G由搬送机器人的搬送臂(未图示)搬出至后段的处理装置。

另外，专利文献1中揭示了这种抗蚀剂涂布装置200。

[背景技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2010-80983号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

如上所述，在抗蚀剂涂布装置200的构成中，在将基板G搬入搬出平台201时，使起模顶杆207升降移动，而将基板G暂时载置在起模顶杆207上。此外，在将基板G载置在基板搬入区域201a的起模顶杆207上时，及在搬出载置在基板搬出区域201b的起模顶杆207上的基板G时，驱动搬送机器人的臂(未图示)，利用所述臂来搬送基板G。

然而，在这种构成中，在将基板搬入基板处理区域201c时，及在从平台201上搬出基板时，存在基板搬送滞后的课题。因此，需要可减少在搬入搬出基板时产生的被处理基板的滞留时间、且缩短处理动作的节拍时间的构成。