[发明专利]涂布处理装置

权利要求书

1.一种涂布处理装置，其在水平地搬送被处理基板的基板搬送路径上设置有处理平台，且对所述处理平台上的所述基板涂布处理液，该涂布处理装置的特征在于包括：

喷嘴，具有沿所述被处理基板的宽度方向延伸的喷出口，在所述处理平台上的所述基板的上方沿基板搬送方向移动，并且从所述喷出口将处理液喷出至所述基板上；

喷嘴移动机构，可使所述喷嘴升降移动，且可使所述喷嘴向基板搬送方向上游侧或下游侧移动；

喷嘴维护机构，设置在所述基板搬送路径的下方，且调整所述喷嘴的喷出口的状态；及

空出区间形成机构，可在所述基板搬送路径上的所述处理平台的上游侧或下游侧，自由出入地形成特定长度的空出区间；且

利用所述喷嘴移动机构来使所述喷嘴移动，且经由利用所述空出区间形成机构而形成的所述基板搬送路径的空出区间，而使所述喷嘴进入所述喷嘴维护机构。

2.根据权利要求1所述的涂布处理装置，其特征在于：

所述空出区间形成机构包括：第1基板搬送部，固定在所述基板搬送路径上的所述处理平台的上游侧或下游侧，且沿基板搬送方向延设特定长度；第2基板搬送部，在基板搬送路径上的所述第1基板搬送部的位置、与和所述第1基板搬送部在上游侧或下游侧邻接的位置之间自由移动地设置，且沿基板搬送方向延设特定长度；及第1进退机构，使所述第2基板搬送部沿基板搬送方向移动；且

通过在所述基板搬送路径上所述第2基板搬送部位于所述第1基板搬送部的位置，而形成所述基板搬送路径的空出区间。

3.根据权利要求1所述的涂布处理装置，其特征在于还包括：

第3基板搬送部，设置为可相对于所述处理平台的载置面相对地升降，且可在上升位置水平地搬送所述基板；及

第2进退机构，通过使所述第3基板搬送部相对于所述平台的载置面相对地升降，而将所述基板载置在所述第3搬送部上或所述平台的载置面上。

4.根据权利要求2所述的涂布处理装置，其特征在于还包括：

第3基板搬送部，设置为可相对于所述处理平台的载置面相对地升降，且可在上升位置水平地搬送所述基板；及

第2进退机构，通过使所述第3基板搬送部相对于所述平台的载置面相对地升降，而将所述基板载置在所述第3搬送部上或所述平台的载置面上。

5.根据权利要求3所述的涂布处理装置，其特征在于：

在所述基板处理部，在所述平台的载置面上设置着当利用所述第2进退机构使所述第3基板搬送部下降时可收纳所述第3基板搬送部的沟槽部。

6.根据权利要求4所述的涂布处理装置，其特征在于：

在所述基板处理部，在所述平台的载置面上设置着当利用所述第2进退机构使所述第3基板搬送部下降时可收纳所述第3基板搬送部的沟槽部。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的涂布处理装置，其特征在于：

所述基板搬送路径利用辊搬送，而水平地搬送所述被处理基板。