[发明专利]一种有机电致发光器件及其制备方法

权利要求书

1.一种有机电致发光器件，包括阳极基板、功能层、发光层、阴极和封装层，所述阳极基板和所述封装层形成封闭空间，所述功能层、发光层和阴极容置在所述封闭空间内，其特征在于，所述封装层依次包括有机材料膜层、热缓冲层、无机材料膜层和聚对苯二甲酸乙二醇酯膜层，所述热缓冲层的材质为SiO或SiO₂，所述无机材料膜层的材质为五氧化二钒、三氧化钼、氧化铟锡、二氧化钛、三氧化钨或二氧化锗掺杂SiO或SiO₂形成的混合材料。

2.如权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述有机材料膜层的材质为酞菁铜、N，N'-（1-萘基）-N，N'-二苯基-4,4'-联苯二胺、八羟基喹啉铝、4,4',4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺或4,7-二苯基-1,10-邻菲罗啉。

3.如权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述无机材料膜层的材质中，所述SiO或SiO₂的掺杂质量分数为10～30%。

4.如权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述热缓冲层的厚度为100~150nm，所述有机材料膜层的厚度为200nm～300nm，所述无机材料膜层的厚度为100~150nm。

5.如权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述有机材料膜层、热缓冲层和无机材料膜层依次交替叠层设置。

6.一种有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在阳极基板上制备功能层、发光层和阴极；

通过真空蒸镀的方式在所述阴极表面蒸镀有机材料膜层，再在所述有机材料膜层上采用磁控溅射的方法依次制备热缓冲层和无机材料膜层，最后在所述无机材料膜层表面设置聚对苯二甲酸乙二醇酯膜层形成封装层；

在所述聚对苯二甲酸乙二醇酯膜边缘涂布紫外线胶，由紫外线固化的方式干燥硬化所述紫外线胶，密封形成封闭空间，将所述功能层、发光层和阴极容置在所述封闭空间内，形成有机电致发光器件；

所述热缓冲层的材质为SiO或SiO₂，所述无机材料膜层的材质为五氧化二钒、三氧化钼、氧化铟锡、二氧化钛、三氧化钨或二氧化锗掺杂SiO或SiO₂形成的混合材料；

所述真空蒸镀过程中的真空度为1×10^-5Pa～1×10^-3Pa，蒸发速度为所述磁控溅射过程中的本底真空度为1×10^-5Pa～1×10^-3Pa，通入氩气的流量为5～15sccm；所述紫外线固化的固化条件为λ=365nm，光强为15～25mW/cm²，曝光时间为300~400s。

7.如权利要求6所述的有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述有机材料膜层的材质为酞菁铜、N，N'-（1-萘基）-N，N'-二苯基-4,4'-联苯二胺、八羟基喹啉铝、4,4',4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺或4,7-二苯基-1,10-邻菲罗啉。

8.如权利要求6所述的有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述无机材料膜层的材质中，所述SiO或SiO₂的掺杂质量分数为10～30%。

9.如权利要求6所述的有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述热缓冲层的厚度为100~150nm，所述有机材料膜层的厚度为200nm～300nm，所述无机材料膜层的厚度为100~150nm。

10.如权利要求6所述的有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述有机材料膜层、热缓冲层和无机材料膜层依次交替叠层设置。