[发明专利]低温釉陶瓷制造方法

权利要求书

1.低温釉陶瓷制造方法，包括以下步骤：

（1）用注浆成型的方法的制得陶瓷制品的坯体，坯体经1020~1050℃温度进行素烧；

（2）用浸釉的方法在素烧后的坯体表面施中间层釉，待中间层釉干后入窑以900~1000℃温度烧成，烧成5~5.5小时；

（3）在坯体表面再喷低温釉，以200~300℃烘烤，烘烤2~3小时。

2.根据权利要求1所述的低温釉陶瓷制造方法，其特征在于，所述的中间层釉的配料重量百分比为：长石28~33% ，石英3~8%，方解石13~20%，玻璃粉7~12%，苏州土5~10%，氧化锌5~10%，熔块20~30%；

上述配料与水混合后进行研磨，研磨后出筒过筛，再加水稀释至60~65波美度制得中间层釉。

3.根据权利要求2所述的低温釉陶瓷制造方法，其特征在于，所述的熔块配料重量百分比为：钾长石28~33%，钠长石17~21%，石英18~22% ，硼钙石12~15%，硼砂10~15% ，氢氧化铝1~5%，碳酸铝 0.5~4%。