[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括若干栅线、数据线及所述栅线和数据线围成的若干像素单元，其特征在于，所述阵列基板的每个像素单元中，与成盒后的黑矩阵对应区域的各膜层之一上设置有标识所述像素单元坐标的标志。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素单元包括：像素电极，所述像素电极上设有标识有所述标志的突出部，所述突出部与围成该像素单元的一条栅线重叠。

3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，每个所述像素单元中的突出部位于所述像素电极的同一侧，且与围成该像素单元的同一侧的栅线重叠。

4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素单元包括：像素电极，所述像素电极上设有标识有所述标志的突出部，所述突出部与围成该像素单元的一条数据线重叠。

5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，每个所述像素单元中的突出部位于所述像素电极的同一侧，且与围成该像素单元的同一侧的数据线重叠。

6.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素单元包括：像素电极和公共电极，所述像素电极或公共电极上设有标识有所述标志的突出部，所述突出部与围成该像素单元的一条栅线重叠。

7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，每个所述像素单元中的突出部位于所述像素电极或公共电极的同一侧，且与围成该像素单元的同一侧的栅线重叠。

8.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素单元包括：像素电极和公共电极，所述像素电极或公共电极上设有标识有所述标志的突出部，所述突出部与围成该像素单元的一条数据线重叠。 

9.如权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，每个所述像素单元中的突出部位于所述像素电极或公共电极的同一侧，且与围成该像素单元的同一侧的数据线重叠。

10.如权利要求1~9中任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述标识所述像素单元坐标的标志为标识围成所述像素单元的栅线和数据线各自的序号组成的图案。

11.一种阵列基板制作方法，包括在基板上制作阵列基板各膜层图案的步骤，其特征在于，在形成其中任一膜层的图案时，在该膜层上与黑矩阵对应区域，采用构图工艺形成标识像素单元坐标的标志。

12.如权利要求11所述的阵列基板制作方法，其特征在于，所述采用构图工艺形成标识像素单元坐标的标志方式为：在采用掩膜工艺形成所述膜层图案的同时，在掩膜板上增加所述标识像素单元坐标的标志的图案。

13.如权利要求11所述的阵列基板制作方法，其特征在于，所述任一膜层的图案为像素电极图案，形成所述像素电极图案的步骤为：

在当前基板上形成像素电极金属薄膜，并在所述金属薄膜上述涂覆光刻胶；

采用掩膜板对所述光刻胶曝光显影，去除像素电极区域以外的光刻胶，所述像素电极区域与其最近的一条栅线或一条数据线重叠，且去除重叠区域上所述标志对应区域的光刻胶；

刻蚀掉暴露出的像素电极金属薄膜，去除剩余的光刻胶，以形成像素电极及位于所述重叠区域的刻蚀有所述标志的像素电极的突出部。

14.如权利要求13所述的阵列基板制作方法，其特征在于，阵列基板上每个所述像素电极区域与其同一侧最近的一条栅线或数据线重叠。 

15.如权利要求11所述的阵列基板制作方法，其特征在于，所述任一膜层的图案为公共电极图案，形成所述公共电极图案的步骤为：

在当前基板上形成公共电极金属薄膜，并在所述金属薄膜上述涂覆光刻胶；

采用掩膜板对所述光刻胶曝光显影，去除公共电极区域以外的光刻胶，所述公共电极区域与其最近的一条栅线或一条数据线重叠，且去除重叠区域上所述标志对应区域的光刻胶；

刻蚀掉暴露出的公共电极金属薄膜，去除剩余的光刻胶，以形成公共电极及位于所述重叠区域的刻蚀有所述标志的公共电极的突出部。

16.如权利要求15所述的阵列基板制作方法，其特征在于，阵列基板上每个所述公共电极区域与其同一侧最近的一条栅线或数据线重叠。

17.如权利要求11~16中任一项所述的阵列基板制作方法，其特征在于，所述标识像素单元坐标的标志为标识围成所述像素单元的栅线和数据线各自的序号组成的图案。

18.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1~10中任一项所述的阵列基板。