[发明专利]光学补偿膜及其制备方法、显示装置有效
申请号: | 201210359440.7 | 申请日: | 2012-09-24 |
公开(公告)号: | CN102866538B | 公开(公告)日: | 2015-11-25 |
发明(设计)人: | 崔晓鹏 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/13363 | 分类号: | G02F1/13363;G02F1/1337;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 补偿 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种光学补偿膜,包括第一基板和第二基板,所述第一基板 和所述第二基板之间设置有液晶层,其特征在于,所述光学补偿膜还 包括:
设置于所述第一基板上的摩擦取向层;
设置于所述第二基板上的辅助取向层,所述第二基板为亲水基 板,所述辅助取向层包括一端带有亲水基团,另一端带有刚性基团的 辅助取向剂分子;
所述液晶层包括盘状液晶,其中,所述第二基板与所述辅助取向 层之间的相互作用以使得所述盘状液晶混合取向。
2.根据权利要求1所述的光学补偿膜,其特征在于,所述亲水 基团包括羧酸基、磺酸基、硫酸基、磷酸基、氨基、季氨基、醚基和 羟基中的一种或几种。
3.根据权利要求1或2所述的光学补偿膜,其特征在于,所述 刚性基团包括联苯、二苯乙炔、偶氮苯和三联苯中的一种或几种。
4.根据权利要求1所述的光学补偿膜,其特征在于,所述辅助 取向剂分子为向列相液晶分子。
5.根据权利要求1所述的光学补偿膜,其特征在于,所述盘状 液晶的分子结构包括含有不饱和键的可聚合基团柔性支链和刚性盘 核所得的对称型或非对称型盘状液晶分子。
6.一种显示装置,包括如权利要求1-5中任一项所述的光学补 偿膜。
7.一种光学补偿膜的制备方法,其特征在于,制备如权利要求 1-5中任一项所述的光学补偿膜的方法包括:
在第一基板上形成摩擦取向层;
与所述第一基板相对设置第二基板,其中,所述第二基板为亲水 基板;
在所述第一基板和所述第二基板之间设置液晶层,所述液晶层包 括盘状液晶、辅助取向剂、光引发剂及热阻聚剂,其中,所述第二基 板与所述辅助取向剂之间的相互作用以使得所述盘状液晶混合取向;
对混合取向后的所述盘状液晶进行光辐照处理,以制成光学补偿 膜。
8.根据权利要求7所述的光学补偿膜的制备方法,其特征在于, 所述液晶层具体包括:
有机溶剂、溶于所述有机溶剂的重量百分比为70%至95%的盘状 液晶、溶于所述有机溶剂的重量百分比为5%至30%的辅助取向剂、 溶于所述有机溶剂的重量百分比为0.1%至10%的光引发剂和溶于所 述有机溶剂的重量百分比为0.01%至10%的热阻聚剂。
9.根据权利要求7所述的光学补偿膜的制备方法,其特征在于, 制作所述亲水基板的方法包括:
用盐酸溶液对基板进行超声处理;
将经过超声处理的所述基板置入硫酸溶液中浸泡;
将所述基板置入超纯水中煮沸,取出后用高纯氮气吹干,以制成 所述亲水基板。
10.根据权利要求9所述的光学补偿膜的制备方法,其特征在于, 制作所述亲水基板的方法具体包括:
用重量百分比为1%至20%的所述盐酸溶液对所述基板进行超声 处理,超声处理时间为1分钟至60分钟;
将经过超声处理的所述基板置入重量百分比为1%至20%的所述 硫酸溶液中浸泡,浸泡时间为1分钟至120分钟;
将所述基板置入超纯水中煮沸,取出后用高纯氮气吹干,以制成 所述亲水基板,煮沸时间为1小时至10小时。
11.根据权利要求7所述的光学补偿膜的制备方法,其特征在于, 以使得所述盘状液晶混合取向的方法包括:
将所述液晶层在80℃至140℃范围内进行预热处理,预热时间为 1分钟至60分钟,以使得所述盘状液晶混合取向。
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