[发明专利]用于具有插入框架的封装件的非流动型底部填充有效
申请号: | 201210340219.7 | 申请日: | 2012-09-13 |
公开(公告)号: | CN103247547A | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 吴俊毅 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/603 | 分类号: | H01L21/603;H01L21/56;H01L23/31;H01L23/538 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;孙征 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 具有 插入 框架 封装 流动 底部 填充 | ||
相关申请的交叉参考
本申请要求于2012年2月2日提交的名称为“Mechanisms for Forming Interposer Frame”的美国临时申请第61/594,141号、于2012年3月28日提交的名称为“Interposer Frame and Method of Manufacturing the Same”的美国申请第13/433,210号(代理人案卷号TSMC2012-0022)、于2012年3月28日提交的名称为“Package on Package Structure and Methods for Forming the Same”的美国临时申请第61/616,958号(代理人案卷号TSMC2012-0089)、于2012年2月28日提交的名称为“Package on Package with Interposer Frame”的美国临时申请第61/604,414号、以及于2012年4月17日提交的名称为“Package with Interposer Frame and Method of Making the Same”的美国申请第13/448,796号(TSMC2012-0094)的优先权。上述所有申请的全文结合于此作为参考。
技术领域
本发明涉及一种半导体封装件及其形成方法,具体而言,本发明涉及堆叠封装结构及其形成方法。
背景技术
半导体器件用于各种电子应用,比如个人计算机、手机、数码相机和其他电子设备。通常通过在半导体衬底上方相继沉积绝缘材料层或介电材料层、导电材料层和半导体材料层,并采用光刻图案化各种材料层以在其上形成电路部件和元件来制造半导体器件。
半导体产业通过不断地减小最小部件尺寸,进而不断地改进各种电子部件(例如,晶体管、二极管、电阻器、电容器等)的集成密度,从而能够将更多元件集成到给定区域上。在一些应用中,这些更小的电子部件也需要比过去的封装件更小的且利用更少面积的封装件。
因此,开始开发新的封装技术,比如晶圆级封装(WLP)和堆叠封装(package on package,PoP)。用于半导体的这些相对新型的封装技术面临制造挑战。
发明内容
为了解决现有技术中存在的问题,根据本发明的一个方面,提供了一种形成堆叠封装结构的方法,所述方法包括:提供衬底,其中所述衬底具有多个第一凸块和多个第二凸块,其中所述多个第二凸块围绕所述多个第一凸块;在所述衬底上方施加非流动型底部填充(NUF)层;利用半导体管芯供应的热量将所述半导体管芯接合至所述衬底上的多个第一凸块;以及利用插入框架供应的热量将所述插入框架接合至所述衬底上的多个第二凸块,其中,所述插入框架围绕所述半导体管芯,其中所述半导体管芯设置在所述插入框架的开口中。
在上述方法中,其中,所述NUF层包括聚烯烃、聚酯、聚碳酸酯或它们的组合。
在上述方法中,其中,所述NUF层的厚度在约20μm至约120μm的范围内。
在上述方法中,其中,包括:在所述半导体管芯和所述插入框架的上方设置封装管芯,其中,所述封装管芯具有与所述插入框架的多个衬底通孔(TSH)对准的多个凸块;以及实施回流工艺以使得所述衬底的多个第二凸块和所述封装管芯的多个凸块填充所述多个TSH。
在上述方法中,其中,利用所述半导体管芯供应的热量将所述半导体管芯接合至所述衬底上的多个第一凸块包括:使用管芯夹持件拾取所述半导体管芯,其中所述管芯夹持件提供热量用于接合所述半导体管芯和所述衬底上的多个第一凸块;将所述半导体管芯按压在所述NUF层和所述衬底上,其中,所述半导体管芯上的多个凸块推开围绕所述多个第一凸块的NUF层以接触所述衬底上的所述多个第一凸块;以及利用所述半导体管芯提供的热量将所述半导体管芯的多个凸块接合至所述多个第一凸块。
在上述方法中,其中,利用所述半导体管芯供应的热量将所述半导体管芯接合至所述衬底上的多个第一凸块进一步包括:使所述半导体管芯的多个凸块与所述多个第一凸块对准。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210340219.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种油分对沥青低温性能的测算方法
- 下一篇:一种可拆装的竖梯助爬器
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造