[发明专利]一种电容式触摸传感器及制作方法、触摸屏和显示装置有效
申请号: | 201210321950.5 | 申请日: | 2012-09-03 |
公开(公告)号: | CN102866816A | 公开(公告)日: | 2013-01-09 |
发明(设计)人: | 刘英明;王海生;杨盛际 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电容 触摸 传感器 制作方法 触摸屏 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及触控技术领域,尤其涉及一种电容式触摸传感器及其制造工艺,以及包括该电容式触摸传感器的触摸屏和显示装置。
背景技术
电容式Touch Panel(触摸屏)以其良好的性能及用户体验,已经逐渐发展成为主流的触摸屏。电容式Touch Sensor(触摸传感器)是电容式触摸屏的关键器件。现有的电容式触摸传感器的结构通常包括:透明绝缘衬底,制作在透明绝缘衬底之上的第一层为金属层,第二层为绝缘层,第三层为ITO(纳米铟锡金属氧化物)图案层,第四层为绝缘保护层。图1所示为一种三角形ITO图案层示意图,多个白色三角形构成的图案为ITO图案层的感应电极图案(或驱动电极图案),多个斜线填充的三角形构成的图案为ITO图案层的驱动电极图案(或感应电极图案)。其中,ITO图案通过与金属层接触实现导通。为了保证ITO图案的导通,需要保证在ITO图案与金属层的导通连接处没有被绝缘层覆盖。在制作电容式触摸传感器的过程中,需要4个Mask(掩膜)。其中,金属层使用一个Mask,绝缘层使用一个Mask,ITO图案层使用一个Mask,绝缘保护层使用一个Mask。由于Mask的设计成本较高,因此,现有的电容式触摸屏的制作工艺存在制作成本较高的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种电容式触摸传感器及其制作方法,以及包括该电容式触摸传感器的触摸屏及显示装置,以解决现有的电容式触摸传感器制作成本较高的问题。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的:
一种电容式触摸传感器的制作方法,包括:
使用透明导电层图案掩膜和光刻胶经过构图工艺形成驱动电极图案层;
使用绝缘层掩膜和光刻胶经过构图工艺形成绝缘层;
使用所述透明导电层图案掩膜和与所述驱动电极图案层胶性相反的光刻胶经过构图工艺形成感应电极图案层;所述驱动电极图案层和所述感应电极图案层位于所述绝缘层所在平面的异侧;
使用所述绝缘层掩膜和与所述绝缘层胶性相同的光刻胶制作绝缘保护层;
该方法还包括:
在透明绝缘衬底上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层,所述金属层包括显示区域的桥接线;所述驱动电极图案层形成于所述金属层上;
或者,
在所述驱动电极图案层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层;所述绝缘层制作于所述金属层上;
或者,
在所述绝缘层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层;所述感应电极图案层形成于所述金属层上。
一种电容式触摸传感器的制作方法,包括:
使用透明导电层图案掩膜和光刻胶经过构图工艺形成感应电极图案层;
使用绝缘层掩膜和光刻胶制作绝缘层;
使用所述透明导电层图案掩膜和与所述感应电极图案层胶性相反的光刻胶经过构图工艺形成驱动电极图案层;所述感应电极图案层和所述驱动电极图案层位于所述绝缘层所在平面的异侧;
使用所述绝缘层掩膜和与所述绝缘层胶性相同的光刻胶制作绝缘保护层;
该方法还包括:
在透明绝缘衬底上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层,所述金属层包括显示区域的桥接线;所述感应电极图案层形成于所述金属层上;
或者,
在所述感应电极图案层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层;所述绝缘层制作于所述金属层之上;
或者,
在所述绝缘层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层;所述驱动电极图案层形成在所述金属层之上。
一种电容式触摸传感器,包括:
透明绝缘衬底,使用金属层掩膜和光刻胶制作的金属层,所述金属层包括显示区域的桥接线,使用透明导电层图案掩膜和光刻胶经过构图工艺形成的驱动电极图案层,使用绝缘层掩膜和光刻胶制作的绝缘层,使用所述透明导电层图案掩膜和与所述驱动电极图案层胶性相反的光刻胶制作的感应电极图案层,使用所述绝缘层掩膜和与所述绝缘层胶性相同的光刻胶制作的绝缘保护层;
所述透明绝缘衬底制作于最底层;
所述驱动电极图案层和所述感应电极图案层形成于所述绝缘层所在平面的异侧;
所述金属层制作于所述透明绝缘衬底之上,或制作于所述驱动电极图案层之上,或制作于所述绝缘层之上;
所述绝缘保护层制作于最上层。
所述电容式触摸传感器的结构具体为:
制作于最底层的透明绝缘衬底;
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