[发明专利]一种电容式触摸传感器及制作方法、触摸屏和显示装置有效

专利信息
申请号: 201210321950.5 申请日: 2012-09-03
公开(公告)号: CN102866816A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 刘英明;王海生;杨盛际 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 电容 触摸 传感器 制作方法 触摸屏 显示装置
【权利要求书】:

1.一种电容式触摸传感器的制作方法,其特征在于,包括:

使用透明导电层图案掩膜和光刻胶经过构图工艺形成驱动电极图案层;

使用绝缘层掩膜和光刻胶经过构图工艺形成绝缘层;

使用所述透明导电层图案掩膜和与所述驱动电极图案层胶性相反的光刻胶经过构图工艺形成感应电极图案层;所述驱动电极图案层和所述感应电极图案层位于所述绝缘层所在平面的异侧;

使用所述绝缘层掩膜和与所述绝缘层胶性相同的光刻胶制作绝缘保护层;

该方法还包括:

在透明绝缘衬底上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层,所述金属层包括显示区域的桥接线;所述驱动电极图案层形成于所述金属层上;

或者,

在所述驱动电极图案层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层;所述绝缘层制作于所述金属层上;

或者,

在所述绝缘层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层;所述感应电极图案层形成于所述金属层上。

2.一种电容式触摸传感器的制作方法,其特征在于,包括:

使用透明导电层图案掩膜和光刻胶经过构图工艺形成感应电极图案层;

使用绝缘层掩膜和光刻胶制作绝缘层;

使用所述透明导电层图案掩膜和与所述感应电极图案层胶性相反的光刻胶经过构图工艺形成驱动电极图案层;所述感应电极图案层和所述驱动电极图案层位于所述绝缘层所在平面的异侧;

使用所述绝缘层掩膜和与所述绝缘层胶性相同的光刻胶制作绝缘保护层;

该方法还包括:

在透明绝缘衬底上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层,所述金属层包括显示区域的桥接线;所述感应电极图案层形成于所述金属层上;

或者,

在所述感应电极图案层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层;所述绝缘层制作于所述金属层之上;

或者,

在所述绝缘层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层;所述驱动电极图案层形成在所述金属层之上。

3.一种电容式触摸传感器,其特征在于,包括:

透明绝缘衬底,使用金属层掩膜和光刻胶制作的金属层,所述金属层包括显示区域的桥接线,使用透明导电层图案掩膜和光刻胶经过构图工艺形成的驱动电极图案层,使用绝缘层掩膜和光刻胶制作的绝缘层,使用所述透明导电层图案掩膜和与所述驱动电极图案层胶性相反的光刻胶制作的感应电极图案层,使用所述绝缘层掩膜和与所述绝缘层胶性相同的光刻胶制作的绝缘保护层;

所述透明绝缘衬底制作于最底层;

所述驱动电极图案层和所述感应电极图案层形成于所述绝缘层所在平面的异侧;

所述金属层制作于所述透明绝缘衬底之上,或制作于所述驱动电极图案层之上,或制作于所述绝缘层之上;

所述绝缘保护层制作于最上层。

4.根据权利要求3所述的电容式触摸传感器,其特征在于,所述电容式触摸传感器的结构具体为:

制作于最底层的透明绝缘衬底;

所述透明绝缘衬底之上的第一层为所述金属层,第二层为所述驱动电极图案层,第三层为所述绝缘层,第四层为所述感应电极图案层,第五层为所述绝缘保护层。

5.根据权利要求3所述的电容式触摸传感器,其特征在于,所述电容式触摸传感器的结构具体为:

制作于最底层的透明绝缘衬底;

所述透明绝缘衬底之上的第一层为所述驱动电极图案层,第二层为所述金属层,第三层为所述绝缘层,第四层为所述感应电极图案层,第五层为所述绝缘保护层。

6.根据权利要求3所述的电容式触摸传感器,其特征在于,所述电容式触摸传感器的结构具体为:

制作于最底层的透明绝缘衬底;

所述透明绝缘衬底之上的第一层为所述驱动电极图案层,第二层为所述绝缘层,第三层为所述金属层,第四层为所述感应电极图案层,第五层为所述绝缘保护层。

7.根据权利要求3所述的电容式触摸传感器,其特征在于,所述电容式触摸传感器的结构具体为:

制作于最底层的透明绝缘衬底;

所述透明绝缘衬底之上的第一层为所述金属层,第二层为所述感应电极图案层,第三层为所述绝缘层,第四层为所述驱动电极图案层,第五层为所述绝缘保护层。

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