[发明专利]触控面板的制造方法

说明书

技术领域

本发明关于触控面板，且特别是有关于触控面板的制作方法。

背景技术

近来，各式电子设备使用触控面板以允许使用者藉由使用一输入装置，如手指或触控笔(stylus)，碰触显示在一显示装置上的一影像而输入数据。此类触控面板主要分类为电阻式触控面板(resistive touch panel)和电容式触控面板(capacitive touch panel)。根据电阻式触控面板，当从一输入装置施加压力至一电极，该电极发生短路，因此侦测到一位置。根据电容式触控面板，当手指碰触触控面板时改变了电极间的电容，根据该电容的变化而侦测到一位置。 如果长时间重复使用电阻式触控面板，电阻式触控面板的效能则会退化，且可产生刮痕。为此，电容式触控面板因其优良耐用性和长寿命而受到注目。

以下，参考图1和图2。图1为说明传统电容式触控屏幕面板的俯视平面图，以及图2为说明沿着图1A-A’线的触控屏幕面板的剖面图。触控屏幕面板100的电极102形成在基板101上，电极102包括在第一方向(如X轴方向)平行排列的复数个第一电极102a，以及在垂直于第一电极102a的相交方向(如Y轴方向)排列的复数个第二电极102b。第一电极102a和第二电极102b彼此相交但是通过第一绝缘层103和第二绝缘层105保持电绝缘状态。此外，第一方向排列的邻近第一电极102a通过金属桥104相互连接。即，金属桥104将邻近第一电极102a和第二电极102b相互连接。

传统上，制造电容式触控屏幕面板的方法，包括至少四道制程。首先，通过沉积制程，如溅渡方法在基板101上沉积一第一金属，并且利用第一光罩以及微影和蚀刻制程图案化第一金属形成金属桥104。接着，于金属桥104上沉积一光阻层，并利用第二光罩以及微影和蚀刻制程图案化光阻层来形成第一绝缘层103。随后在第一绝缘层103以及金属桥104上沉积一第二金属，并且利用第三光罩以及微影和蚀刻制程图案化第二金属来形成第一电极102a和第二电极102b。最后，于第一电极102a和第二电极102b上沉积一光阻层，并利用一第四光罩以及微影和蚀刻制程图案化光阻层来形成第二绝缘层105。

由于，传统电容式触控屏幕面板使用4个光罩制程制造，而每个光罩制程需伴随着一系列的微影和蚀刻制程，如光阻、涂布、对准、曝光、显影以及清洁，制程相当繁琐，因此，如何减少光罩制程的数量即成为需考虑的课题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种可以较少光罩制程形成一触控面板的制作方法。

本发明的技术方案在于：一种触控面板的制造方法，其特征在于：包括下列步骤：

于一基板的表面上依序形成一第一导电层、一第二导电层以及一第一光阻层；

使用一第一灰阶光罩图案化该第一光阻层；

利用该图案化第一光阻层蚀刻该第一导电层以及该第二导电层以定义出该触控面板的一第一感测电极；

形成一第一绝缘层于该基板以及该第一感测电极上；

使用一第二灰阶光罩图案化该第一绝缘层以形成具不同厚度的图案化第一绝缘层，其中覆盖在该第一感测电极之上的该图案化第一绝缘层具有最大的厚度；

形成一第三导电层于该图案化第一绝缘层上；

形成一第二光阻层于该第三导电层上；

图案化该第二光阻层以暴露出部分之该第三导电层；以及

利用该图案化第二光阻层蚀刻该第三导电层以定义出该触控面板的一第二感测电极。

进一步的，其中该第一导电层和第三导电层的材质是氧化铟锡。

进一步的，其中该第二导电层的材质是氧化铟锡或合金材料。

进一步的，其中该合金材料系为具有钯、铂、金、银、铬、AlNd以及铝的任一种或其组合。

进一步的，其中是以湿式蚀刻或干式蚀刻方式蚀刻该第一导电层、该第二导电层以及该第三导电层。

进一步的，其中该基材系选自玻璃、塑料以及透明材质所组成的族群之一。

进一步的，其中使用该第一灰阶光罩图案化该第一光阻层之步骤，更包括：

在预定形成该第一感测电极处，形成具有一第一厚度以及一第二厚度的该第一光阻层，其中该第二厚度小于该第一厚度；以及

移除位于预定形成该第二感测电极处的第一光阻层以暴露出该第二导电层。

进一步的，其中利用该图案化第一光阻层蚀刻该第一导电层以及该第二导电层以定义出该触控面板的一第一感测电极之步骤，更包括：