[发明专利]独立清洁设备及其控制方法在审
| 申请号: | 201210319703.1 | 申请日: | 2012-08-31 |
| 公开(公告)号: | CN102961088A | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
| 发明(设计)人: | 丁玄守;李秉仁;章晖撰;金东元 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
| 主分类号: | A47L11/18 | 分类号: | A47L11/18 |
| 代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 韩明星 |
| 地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 独立 清洁 设备 及其 控制 方法 | ||
技术领域
本公开的实施例涉及一种在将被清洁的区域上执行清洁任务的独立清洁设备(autonomous cleaning apparatus)及控制该独立清洁设备的方法。
背景技术
通常,独立清洁设备是在不需要用户控制的情况下通过在将被清洁的区域上自我运行而从地板表面清洁积聚的灰尘和其他灰尘的设备。独立清洁设备通过控制驱动设备来清洁将被清洁的指定区域,并通过控制清洁设备来有效地去除灰尘。
由于独立清洁设备不是通过用户而持续地保持工作,所以独立清洁设备被构造成在执行清洁任务时是自我效能的(self-efficient)。例如,驱动设备和清洁设备可被设置成按照电信号进行反馈以保持稳定的清洁性能,同时配备机械结构(mechanical composition)以保持稳定的清洁性能。
发明内容
因此,本公开的一方面在于提供一种独立清洁设备及其控制方法,该独立清洁设备的刷清洁构件的动作和结构得到改善,以保持独立清洁设备的清洁性能。
将在接下来的描述中部分阐述本公开另外的方面,还有一部分通过描述将是清楚的,或者可以经过本公开的实施而得知。
根据本公开的一方面,独立清洁设备包括主体、刷单元和刷清洁构件。刷单元可旋转地安装在主体上,以从主体的底下收集灰尘。刷清洁构件包括第一刷清洁突起和第二刷清洁突起,第一刷清洁突起和第二刷清洁突起朝着刷单元突出,以与刷单元接触,从而去除缠绕在刷单元上的杂质。
第一刷清洁突起和第二刷清洁突起沿着彼此相反的方向倾斜,使得第一刷清洁突起在刷单元沿着第一方向旋转时去除缠绕在刷单元上的杂质,而第二刷清洁突起在刷单元沿着第二方向旋转时去除缠绕在刷单元上的杂质。
在刷单元沿着第一方向旋转以使独立清洁设备吸入灰尘并且刷单元沿着第二方向旋转以使独立清洁设备排放灰尘的同时,通过刷清洁构件去除缠绕在刷单元上的杂质。
在刷单元沿着第一方向和第二方向交替地旋转的同时,通过刷清洁构件去除缠绕在刷单元上的杂质。
第一刷清洁突起形成有沿着刷单元纵向地设置的多个刷清洁突起,第二刷清洁突起形成有沿着刷单元纵向地设置的多个刷清洁突起,第一刷清洁突起和第二刷清洁突起突出至刷单元的旋转半径内。
第一刷清洁突起和第二刷清洁突起在刷清洁构件的端部上彼此一体地形成。
所述独立清洁设备还包括控制单元,所述控制单元被配置成确定是否去除缠绕在刷单元上的杂质并执行控制,使得在刷单元沿着第一方向和第二方向交替地旋转的同时通过刷清洁构件去除缠绕在刷单元上的杂质。
控制单元基于通过设置在主体的开口的壁表面上的光学传感器检测的能量来检测缠绕在刷单元上的杂质的量并基于检测到的杂质的量确定是否去除所述杂质。
控制单元基于使刷单元运行的电机上的负载来检测缠绕在刷单元上的杂质的量并基于检测到的杂质的量确定是否去除所述杂质。
控制单元基于用户的输入确定是否去除杂质。
根据本公开的另一方面,独立清洁系统包括主体、独立清洁设备和杂质去除工具。独立清洁设备包括刷单元,刷单元可旋转地安装在主体上,以收集在主体的底下的灰尘。杂质去除工具包括刷清洁构件,刷清洁构件朝着刷单元突出并与刷单元接触,以去除缠绕在刷单元上的杂质,并且杂质去除工具可拆卸地结合到主体,同时与刷单元的底部相邻地设置。
杂质去除工具包括结合突起单元,该结合突起单元通过主体的结合槽单元结合到主体。
刷清洁构件设置有沿着彼此相反的方向倾斜的第一刷清洁突起和第二刷清洁突起。
刷单元沿着单个方向旋转或者沿着第一方向和第二方向交替地旋转,以使用刷清洁构件去除缠绕在刷单元上的杂质。
独立清洁设备还包括控制单元,该控制单元被构造成识别杂质去除工具是否结合到主体同时与刷单元的底部相邻。
控制单元基于通过布置在主体的结合槽单元中的微调开关的输出来识别杂质去除工具是否结合到主体。
控制单元基于通过布置在主体的结合槽单元中的光学传感器的输出来识别杂质去除工具是否结合到主体。
控制单元基于通过布置在主体的结合槽单元中的磁性传感器的输出来识别杂质去除工具是否结合到主体。
在杂质去除工具结合到主体时的情况下,控制单元执行控制,使得在刷单元沿着第一方向和第二方向交替地旋转的同时通过刷清洁构件去除缠绕在刷单元上的杂质。
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