[发明专利]阵列基板的图形修补装置及方法

说明书

【技术领域】

本发明涉及液晶生产技术领域，特别是涉及一种阵列基板的图形修补装置及方法。

【背景技术】

随着液晶技术的不断发展，对液晶生产效率提出了很高的要求。

在液晶显示器的制作过程中，光罩 (MASK)是必不可少的制作部件，譬如在制作薄膜场效应晶体管（Thin Film Transistor，TFT）基板的像素区、或者彩色滤光片（Color Filter，CF）基板的色阻区（R、G和B）的过程中，都需要用到光罩。

请参阅图1，图1为现有技术中一种光罩的俯视结构示意图。光罩10包括透明玻璃11，叠加于所述透明玻璃11上的光阻层12，与所述光阻层12位于同一层、且形成于所述光阻层12之间的透光区13，其中所述光阻层12不透光，所述光阻层12和所述透光区13共同形成光罩图案。

在TFT基板的制作过程中，通过所述光罩10对基底上的待刻蚀层进行光照后，会在待刻蚀层上形成曝光后图形，此时需要对该曝光后图形进行检测，检测结果包括两种情况：一是曝光后图形存在多余的光阻；二是曝光后图形存在断线缺陷，该断线缺陷可能有待刻蚀层的光阻气泡破裂引起。

针对上述第一种情况，可以通过清除设备（Repair）去除所述曝光后图形中多余的光阻。而针对上述第二种情况，则需要将所述形成曝光后图形的基底重新进行光罩，或者直接报废，不仅造成成本的浪费，而且影响液晶生产效率。

综上，一旦待刻蚀层上的曝光后图形存在断线缺陷，对该断线缺陷的处理不仅造成成本浪费，而且还影响液晶生产效率。

【发明内容】

本发明的一个目的在于提供一种阵列基板的图形修补装置，以解决现有技术中待刻蚀层上的曝光后图形存在断线缺陷时，对该断线缺陷的处理不仅造成成本浪费，而且还影响液晶生产效率的技术问题。

为解决上述技术问题，本发明构造了一种阵列基板的图形修补装置，所述装置包括：

光照单元，用于在将光罩置于基底上方后，对所述光罩实施光照，以在所述基底的待刻蚀层形成曝光后图形；

检测单元，用于对所述待刻蚀层上的曝光后图形进行检测，判断所述曝光后图形是否存在待涂布缺陷；以及

涂布单元，其用于在判定所述曝光后图形存在待涂布缺陷时，在待涂布缺陷处涂布形成一保护层。

在本发明一实施例中：所述检测单元具体包括：

图像获取单元，用于获取所述曝光后图形的图像；以及

显示单元，用于将所述图像获取单元获取的图像显示给操作人员，由操作人员判断所述曝光后图形是否存在待涂布缺陷。

在本发明一实施例中：所述阵列基板的图形修补装置还包括：

刻蚀单元，用于对形成有保护层的待刻蚀层进行刻蚀。

在本发明一实施例中：所述涂布单元包含喷嘴。

在本发明一实施例中：所述待涂布缺陷为断线缺陷。

本发明的另一个目的在于提供一种阵列基板的图形修补方法，以解决现有技术中待刻蚀层上的曝光后图形存在断线缺陷时，对该断线缺陷的处理不仅造成成本浪费，而且还影响液晶生产效率的技术问题。

为解决上述技术问题，本发明构造了一种阵列基板的图形修补方法，所述方法包括以下步骤：

在将光罩置于基底上方后，对所述光罩实施光照，以在所述基底的待刻蚀层形成曝光后图形；

对所述待刻蚀层上的曝光后图形进行检测，判断所述曝光后图形是否存在待涂布缺陷；

若所述曝光后图形存在待涂布缺陷，则在所述待涂布缺陷处涂布形成一保护层。

在本发明一实施例中：对所述刻蚀图案进行检测的步骤具体包括：

获取所述曝光后图形的图像；以及

将获取的图像显示，由操作人员判断所述曝光后图形是否存在待涂布缺陷。

在本发明一实施例中：在待涂布缺陷处涂布形成一保护层的步骤之后，所述方法还包括以下步骤：

对形成有保护层的待刻蚀层进行刻蚀。

在本发明一实施例中：在所述待涂布缺陷处涂布形成所述保护层的步骤具体包括：

通过喷嘴在所述待涂布缺陷处涂布形成所述保护层。

在本发明一实施例中：所述待涂布缺陷为断线缺陷。

相对于现有技术，本发明通过在现有的修补机的基础上增加一涂布单元，譬如喷嘴，在判定曝光后图形存在待涂布缺陷时，通过该涂布单元直接在待涂布缺陷处涂布形成一保护层，显然，本发明无需将存在断线缺陷的阵列基板报废，而是直接在待涂布缺陷处涂布形成保护层，不仅效率高，而且成本低。