[发明专利]一种FeSe超导薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210316109.7 申请日: 2012-08-30
公开(公告)号: CN102828162A 公开(公告)日: 2012-12-19
发明(设计)人: 张胜楠;李成山;白利锋 申请(专利权)人: 西北有色金属研究院
主分类号: C23C16/30 分类号: C23C16/30;C23C16/448;C23C16/52;H01L39/24;H01B13/00
代理公司: 西安创知专利事务所 61213 代理人: 谭文琰
地址: 710016*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 fese 超导 薄膜 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种超导材料的制备方法,具体涉及一种FeSe超导薄膜的制备方法。

背景技术

2008年,由日本Hosono课题组首先报道了具有26K临界温度的LaO1-xFxFeAs,随后Fe基高温超导材料(FHS)发展迅速。目前,已经发展为四个主要体系,分别是“1111”体系(如LaFeAsOF),“122”体系(如BaFe2As2),“111”体系(如LiFeAs)和“11”体系(如FeSe)。与高温铜氧化物超导体(HTS)类似,FHS的晶体结构都为层状结构,由-FeAs-层(或-FeSe-层)作为超导层。

FHS的迅速发展主要有三个原因,首先,一般认为Fe的磁性对常规超导体中的电子配对有破坏左右,故而在FHS中,磁性和超导性的共存为探索高温超导机制提供了新途径;另一方面,FHS具有较高的超导性能,并且各向异性弱,适于实际应用的需要。FHS的Hc2远高于金属基低温超导材料,如Nb3Sn、NbTi和MgB2等,一般的FHS在4.2K左右,Hc2均可达到50T以上,是Nb3Sn(Hc2为30T)的两倍左右,而Sr0.6K0.4Fe2As2的Hc2更是达到了140T左右。同时,铁基超导材料的临界电流密度Jc较高,如SmFeAsOF单晶在5K的Jc为2×106Acm-2,Ba0.6K0.4Fe2A2单晶在4.2K时Jc为4×105Acm-2,FeTe0.61Se0.39的Jc在低于其临界温度14K时即可达到1×105Acm-2,同时,FHS的载流性能在磁场下的衰减较慢,即使是在20T的磁场条件下,许多FHS的Jc也能达到105Acm-2以上,这些性能保证了FHS实际应用的可能性。在众多FHS中,尽管FeSe基超导材料的临界转变温度较低,但是在液氦温度下,其临界电流密度可以达到应用的要求,并且,其原料无贵金属,无毒性,储备丰富,使其在工业化生产过程中具有更大的优势。因此,制备出具有实际应用潜力的FeSe基带材是目前该体系铁基超导材料的研究重点。一般而言,FeSe具有两种晶体结构,一种是六方相,其中,Fe:Se比例略低于1︰1,由于结构的限制六方相FeSe不具备超导性能;另一种是四方相,这种结构中,-FeSe-呈片层状分布,即成为了与-FeAs-和-CuO-相似的超导层结构,因此,在10K左右发生超导转变。在材料的烧结过程中,这两种结构之间具有相互转化的关系,随着烧结温度的提高,四方相FeSe比例逐渐增加,在800℃~1000℃烧结后,四方相FeSe的比例可以达到90%以上,此时,四方相之间实现联通,可以获得良好的超导载流性能。

薄膜材料是超导材料实际应用的一种重要形式之一。现有的薄膜制备技术多为物理沉积方法,其过程中需要使用激光等高能装置,大大提高了材料的制备成本。因此,亟需一种薄膜材料的新型制备方法,不仅可以降低制备成本,而且原位的加热反应过程用以可以保证最终样品的清洁度,并提高制备效率。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于针对上述现有技术的不足,提供一种FeSe超导薄膜的制备方法。该方法制备工艺简单易控,工艺流程短,可重复性强,适于工业化大规模生产;采用该方法制备的FeSe超导薄膜表面平整,晶间连接性好,四方相含量高,具有优异的超导性能。

为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:一种FeSe超导薄膜的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:

步骤一、将铁板材的表面加工平整,依次采用盐酸溶液、无水乙醇和丙酮清洗干净后,放置在高温管式炉的中部;

步骤二、将盛有硒粉的坩埚放置在高温管式炉中靠近进气口的一端,并距离铁板材5cm~30cm;

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