[发明专利]投影光源的调整方法与调整装置有效

专利信息
申请号: 201210312933.5 申请日: 2012-08-30
公开(公告)号: CN102854724A 公开(公告)日: 2013-01-02
发明(设计)人: 胡飞 申请(专利权)人: 深圳市绎立锐光科技开发有限公司
主分类号: G03B21/14 分类号: G03B21/14;G03B21/20;G03B21/00;G02B27/09
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518057 广东省深圳市南山区科*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 投影 光源 调整 方法 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及照明及显示技术领域,特别是涉及一种投影系统的投影光源调整方法和调整装置。

背景技术

为实现在屏幕上投影出亮度均匀的图像,现有的投影系统往往在光路中设置匀光装置来对投影光源的出射光进行匀光,再利用DMD等光调制单元对其进行调制后入射至投影镜头。常用的匀光装置包括匀光棒、复眼透镜等。图1为现有技术中一种投影系统的结构示意图,如图1所示,投影系统100包括投影光源110,透镜120,匀光棒130,透镜140,全内反射棱镜150,光调制单元160,投影镜头170,其中投影光源110包括激发光源111和荧光粉色轮112,激发光源激发荧光粉色轮产生受激光并出射。匀光棒130接收投影光源110的出射光,将其进行均匀化后经透镜140与全内反射棱镜150入射至光调制单元160。光调制单元160为DMD,其对入射光进行调制并出射至投影镜头170。但是,投影镜头170投射出的投影图像会出现晕影现象,即投影图像中间亮度高边缘亮度低而呈现出亮度不均匀的现象。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种投影光源的调整方法与调整装置,以获得期望的亮度分布的投影区域。

一种投影系统的投影光源的调整方法,其特征在于,投影系统包括投影光源,光调制单元,投影镜头,投影光源的出射光入射到光调制单元,并经该光调制单元调制后出射至投影镜头,最终经投影镜头投影出射到投影区域;投影光源的调整方法包括:

获取投影光源的出射光光斑的若干预定位置的第一亮度ai

获取出射光光斑的若干预定位置在投影区域上对应位置的第二亮度bi

获取出射光光斑的若干预定位置在投影区域上对应位置的期望亮度pi

通过以下公式获得在投影区域上获得期望亮度所需要的投影光源的出射光光斑的若干预定位置的第三亮度ci

其中i为大于等于1的整数;

调整投影光源,使得该投影光源的出射光光斑的若干预定位置的亮度为第三亮度ci

本发明还提供一种调整装置,包括

与现有技术相比,本发明包括如下有益效果:

本发明中,通过获取投影光源的出射光光斑的若干预定位置的第一亮度ai,获取出射光光斑的若干预定位置在投影区域上对应位置的第二亮度bi,获取出射光光斑的若干预定位置在投影区域上对应位置的期望亮度pi,最终通过公式获得在投影区域上获得期望亮度所需要的投影光源的出射光光斑的若干预定位置的第三亮度ci,使得调整后的投影光源时投影区域可以获得期望的亮度分布。

附图说明

图1是现有技术中一种投影系统的结构示意图;

图2a是本发明投影系统的一个实施例的结构示意图;

图2b是图2a中所示投影系统的投影光源的调整方法流程示意图;

图2c是投影光源出射光光光斑的测量位置示意图;

图2d是图2c中投影光源出射光光光斑对应的投影区域的亮度测量位置示意图;

图3a是本发明投影系统的又一个实施例的结构示意图;

图3b为图3a中所示投影系统的投影光源的调整方法流程示意图;

图3c是图3a所示投影系统的调整后的投影光源的结构示意图;

图3d是图3a所示投影系统的调整后的投影光源的又一种结构示意图;

图4是本发明投影光源调整装置的一个实施例的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式对本发明实施例进行详细说明。

实施例一

图2a是本发明投影系统的一个实施例的结构示意图,如图2a所示,投影系统包括投影光源210,透镜220,全内反射棱镜240,光调制单元230,投影镜头250。投影光源210具体为LED阵列,投影光源210的出射光经透镜220调整进入全内反射棱镜240,然后入射到光调制单元230进行调制,最后经全反射透镜240出射至投影镜头250,最终经投影镜头250投影至屏幕上的投影区域。

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