[发明专利]投影光源的调整方法与调整装置有效
| 申请号: | 201210312933.5 | 申请日: | 2012-08-30 |
| 公开(公告)号: | CN102854724A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
| 发明(设计)人: | 胡飞 | 申请(专利权)人: | 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 |
| 主分类号: | G03B21/14 | 分类号: | G03B21/14;G03B21/20;G03B21/00;G02B27/09 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 518057 广东省深圳市南山区科*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 投影 光源 调整 方法 装置 | ||
1.一种投影系统的投影光源的调整方法,其特征在于,所述投影系统包括投影光源,光调制单元,投影镜头,所述投影光源的出射光入射到所述光调制单元,并经该光调制单元调制后出射至所述投影镜头,最终经所述投影镜头投影出射到投影区域;所述投影光源的调整方法包括:
获取所述投影光源的出射光光斑的若干预定位置的第一亮度ai;
获取所述出射光光斑的若干预定位置在投影区域上对应位置的第二亮度bi;
获取所述出射光光斑的若干预定位置在投影区域上对应位置的期望亮度pi;
通过以下公式获得在投影区域上获得所述期望亮度所需要的投影光源的出射光光斑的若干预定位置的第三亮度ci:
其中i为大于等于1的整数;
调整所述投影光源,使得该投影光源的出射光光斑的若干预定位置的亮度为所述第三亮度ci。
2.根据权利要求1所述的调整方法,其特征在于,所述投影光源的出射光的光斑的若干预定位置的第一亮度分布为均匀分布。
3.根据权利要求1所述的调整方法,其特征在于,所述调整投影光源,使得该投影光源的出射光光斑的若干预定位置的亮度为所述第三亮度ci包括:
设置整形装置,用于将所述投影光源的出射光光斑的若干预定位置的亮度调整为所述第三亮度ci,该投影光源调整后的出射光入射至所述光调制单元。
4.根据权利要求3所述的调整方法,其特征在于,所述投影光源包括激发光源以及波长转换装置,所述波长转换装置接收所述激发光源的激发光以产生受激光,并出射未被吸收的激发光与受激光的混合光或该受激光;
所述整形装置位于所述激发光源以及波长转换装置之间的光路上。
5.根据权利要求1所述的调整方法,其特征在于,所述投影光源包括LED阵列;
所述调整投影光源,使得该投影光源的出射光光斑的若干预定位置的亮度为所述第三亮度ci包括:调整所述LED阵列中与所述若干预定位置对应的LED的亮度,使得该对应的LED的亮度为所述第三亮度ci。
6.一种投影光源的调整装置,其特征在于,包括:
第一获取模块,用于获取投影光源的出射光光斑的若干预定位置的第一亮度ai;
第二获取模块,用于获取所述出射光光斑的若干预定位置在投影区域上对应位置的第二亮度bi;
第三获取模块,用于获取所述出射光光斑的若干预定位置在投影区域上对应位置的期望亮度pi;
第四获取模块,用于通过以下公式获得在投影区域上获得所述期望亮度所需要的投影光源的出射光光斑的若干预定位置的第三亮度ci,以便于将所述投影光源的出射光光斑的若干预定位置的亮度调整为所述第三亮度ci,
其中i为大于等于1的整数。
7.一种投影系统,其特征在于,所述投影系统包括投影光源,光调制单元,投影镜头,所述投影光源的出射光入射到所述光调制单元,并经该光调制单元调制后出射至所述投影镜头,最终经所述投影镜头投影出射到投影区域;
所述投影光源包括LED阵列;
所述投影系统还包括投影光源调整装置,该调整装置用于获取投影光源的出射光光斑的若干预定位置的第一亮度ai;获取所述出射光光斑的若干预定位置在投影区域上对应位置的第二亮度bi;获取所述出射光光斑的若干预定位置在投影区域上对应位置的期望亮度pi;通过以下公式获得在投影区域上获得所述期望亮度所需要的投影光源的出射光光斑的若干预定位置的第三亮度ci:
其中i为大于等于1的整数;
所述调整装置还用于调整所述LED阵列中与所述若干预定位置对应的LED的亮度,使得该对应的LED的亮度为所述第三亮度ci。
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