[发明专利]处理基板的装置和方法

说明书

技术领域

本发明构思的实施例涉及处理基板的装置和方法，并且，特别涉及将处理溶液供给传送中的基板上的装置和方法。

背景技术

近来，信息处理设备已经迅速发展为具有多种功能和更高的处理速度。信息处理设备可以具有显示面板以显示信息。例如，诸如液晶显示器(LCD)的平板显示面板已经被广泛使用，并且此外，它们的尺寸和重量正在增加。

平板显示面板可以通过多种工艺(例如，光刻、蚀刻和沉积工艺)制造。通常，光刻可以包括涂布、曝光、显影和清洗光致抗蚀剂层。在显影光致抗蚀剂层的步骤中，可以在基板上供给显影溶液并回收，然后，清洗溶液可以被供给在基板上。图1为示意性示出用以执行显影工艺和清洗工艺的传统装置的截面图。参照图1，可以在显影室10中执行显影基板S的步骤，并且随后，可以在清洗室20中执行清洗基板S的步骤。在显影步骤和清洗步骤期间，基板S可以沿特定方向分别在显影室10和清洗室20中被传送。例如，如果基板S位于显影室10的水平部分A上，可以将显影溶液供给被水平传送中的基板S上。此后，在显影室10的变角部分中，基板S可以以成角度的状态被传送以回收剩余在基板S上的显影溶液。

然而，根据传统工艺，当显影溶液可沿成角度的基板表面流动时，在基板上可能发生污染。可以使用提高基板传送速度的方法以克服污染问题，但是这可能导致处理失败，诸如基板滑落。

发明内容

本发明构思的实施例所提供的是向传送中的基板上供给处理溶液的装置和方法。

本发明构思的其他实施例提供了当从传送中的基板回收处理溶液时防止发生污染的装置和方法。

本发明构思的其他实施例提供了提高从传送中的基板回收处理溶液时的效率的装置和方法。

本发明构思的其他实施方式提供了防止在基板被高速传送时基板滑落的装置和方法。

根据本发明构思的示例性实施例，基板处理装置可以包括：第一室；具有内部空间的第二室，该内部空间与第一室的内部空间连接；沿第一方向传送基板的基板传送部件；被设于第一室中的处理溶液供给部件，用于向基板供给处理溶液；以及被设于第二室中的清洗溶液供给单元，该清洗溶液供给单元包括在基板上供给清洗溶液的清洗溶液供给部件。基板传送部件可以包括被设于第一室和第二室中的每一个中并沿第一方向布置的多个传送轴，以及支撑该传送轴的框架。框架可以包括：被设于所述第一室中的水平框架，由该水平框架支撑的传送轴具有水平顶部；被设于第二室中的成角度框架，由该成角度框架支撑的传送轴具有成角度的顶部；以及被设于水平框架和成角度框架之间的变角框架，该变角框架将由其支撑的传送轴的顶部从水平状态变为成角度状态。

在示例性实施例中，装置可以进一步包括处理溶液回收单元，该处理溶液回收单元被设于第一室中的以回收剩余在基板上的处理溶液。处理溶液回收单元可以包括第一支撑辊，向由第一支撑辊支撑的基板区域喷射加压流体的加压流体供给部件。第一支撑辊可以被设于传送轴之间。在示例性实施例中，第一支撑辊可以被提供为具有与传送辊位于相同竖直高度的顶部。在其他实施例中，第一支撑辊可以被提供具有比传送辊高的竖直高度的顶部。第一支撑辊可以具有圆柱形形状并且轴向平行于传送轴的轴向。第一支撑辊的直径可以大于传送轴的直径。处理溶液回收单元位于第一室的末端部分。变角框架可以包括支撑传送轴一侧末端部分的第一变角框架，支撑传送轴的另一侧末端部分的第二变角框架，并且该第二变角框架在竖直方向上是可移动的。清洗溶液供给部件可以被设于变角框架上。清洗溶液供给单元可以进一步包括被设于传送轴之间的第二支撑辊，以具有由变角框架支撑的末端部分，并且清洗溶液供给部件可以用于向由第二支撑辊支撑的基板区域上喷射清洗溶液。

根据本发明构思的示例性实施例，基板处理装置可以包括：室；被设于该室中的基板传送部件，基板传送部件包括多个传送轴，该多个传送轴可以沿第一方向布置以沿第一方向传送基板，且基板传送部件包括多个传送辊，传送辊中的每个可以被设于每个传送轴的外周表面上以与基板接触；设于室中的处理溶液供给部件，用于向基板供给处理溶液；以及处理溶液回收单元，回收剩余在基板上的处理溶液。处理溶液回收单元可以包括被设于传送轴之间的第一支撑辊，以及向由第一支撑辊支撑的基板区域喷射加压流体的加压流体供给部件。

在示例性实施例中，第一支撑辊可以具有位于与传送辊实质相同的竖直高度的顶部。第一支撑辊可以具有位于比传送辊高的竖直高度的顶部。第一支撑辊可以具有圆柱形形状，并且其轴向平行于传送轴的轴向。第一支撑辊可以具有与基底宽度相比相同或更大的长度。