[发明专利]处理基板的装置和方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，包括：

第一室；

具有内部空间的第二室，所述内部空间与所述第一室的内部空间连接；

沿第一方向传送基板的基板传送部件；

被设于所述第一室中的处理溶液供给部件，用于向所述基板上供给处理溶液；以及

被设于所述第二室中的清洗溶液供给单元，所述清洗溶液供给单元包括用于在所述基板上供给清洗溶液的清洗溶液供给部件；

其中所述基板传送部件包括：

被设于所述第一室和所述第二室中的每一个中并沿第一方向布置的多个传送轴；以及

支撑所述传送轴的框架，并且

其中所述框架包括：

被设于所述第一室中的水平框架，由所述水平框架支撑的传送轴具有水平顶部；

被设于所述第二室中的成角度框架，由所述成角度框架支撑的传送轴具有成角度的顶部；并且

被设于所述水平框架和在所述第二室中的成角度框架之间的变角框架，所述变角框架将由其支撑的传送轴的顶部从水平状态变为成角度状态。

2.根据权利要求1所述的装置，进一步包括处理溶液回收单元，所述处理溶液回收单元被设于所述第一室中以回收剩余在所述基板上的处理溶液，

其中所述处理溶液回收单元包括：

第一支撑辊；

向所述基板的由所述第一支撑辊支撑的区域喷射加压流体的加压流体供给部件。

3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述第一支撑辊被设于所述传送轴之间。

4.根据权利要求3所述的装置，其中所述第一支撑辊被提供为具有与传送辊位于相同竖直高度的顶部。

5.根据权利要求3所述的装置，其中所述第一支撑辊被提供为具有比所述传送辊高的竖直高度的顶部。

6.根据权利要求4或5所述的装置，所述第一支撑辊具有圆柱形形状并且其轴向平行于所述传送轴的轴向。

7.根据权利要求6所述的装置，其中所述第一支撑辊的直径大于所述传送轴的直径。

8.根据权利要求7所述的装置，其中所述处理溶液回收单元位于所述第一室的末端部分。

9.根据权利要求1所述的装置，其中所述变角框架包括：

支撑所述传送轴的一侧末端部分的第一变角框架；

支撑所述传送轴的另一侧末端部分的第二变角框架。

10.根据权利要求9所述的装置，其中所述清洗溶液供给部件位于所述变角框架上。

11.根据权利要求10所述的装置，其中所述清洗溶液供给单元进一步包括被设于所述传送轴之间的第二支撑辊，以具有由所述变角框架支撑的末端部分，并且

所述清洗溶液供给部件用于向所述基板的由所述第二支撑辊支撑的区域上喷射所述清洗溶液。

12.一种基板处理装置，包括：

室；

被设于所述室中的基板传送部件，其包括：多个传送轴，所述传送轴沿第一方向布置以沿所述第一方向传送基板；以及多个传送辊，所述传送辊中的每个被设于每个所述传送轴的外周表面上，以与所述基板接触；

设于所述室中的处理溶液供给部件，用于向所述基板供给处理溶液；以及

处理溶液回收单元，回收剩余在所述基板上的所述处理溶液；

其中所述处理溶液回收单元包括：

被设于所述传送轴之间的第一支撑辊；以及

向所述基板的由所述第一支撑辊支撑的区域喷射加压流体的加压流体供给部件。

13.根据权利要求12所述的装置，其中所述第一支撑辊具有与所述传送辊实质相同的竖直高度的顶部。

14.根据权利要求12所述的装置，其中所述第一支撑辊具有位于比所述传送辊高的竖直高度的顶部。

15.根据权利要求12至14中的任一项所述的装置，其中所述第一支撑辊具有圆柱形形状，并且其轴向平行于所述传送轴的轴向。

16.根据权利要求15所述的装置，其中所述第一支撑辊具有与所述基板宽度相比相同或更大的长度。

17.一种处理传送中的基板的方法，包括：向第一室中被水平传送中的基板供给处理溶液，喷射加压流体以回收剩余在所述基板上的处理溶液，并且，然后在第二室中将所述基板的位置从水平状态变为成角度状态。

18.根据权利要求17所述的方法，进一步包括在将所述基板从水平状态变为成角度状态期间，向所述基板供给清洗溶液。