[发明专利]薄膜沉积系统

权利要求书

1.一种薄膜沉积系统，其特征在于，包含：

一载盘；

一中心盘，设置于该载盘的中心位置，该中心盘的周缘具有一中心斜面；及

至少一承载器，设置于该载盘上并位于中心盘外围，分别用以承载至少一基板，该至少一承载器的周缘具有一承载斜面与该中心斜面接触。

2.根据权利要求1所述的薄膜沉积系统，其特征在于，当该载盘旋转带动该至少一承载器对该载盘的一载盘中心轴进行一公转以及当该中心盘固定不旋转时，在该承载斜面与该中心斜面接触下，使得该至少一承载器同时进行一自转。

3.根据权利要求1所述的薄膜沉积系统，其特征在于，当该载盘带动该至少一承载器对该载盘的一载盘中心轴进行一公转时，可借由控制该中心盘一旋转方向与速度，在该承载斜面与该中心斜面接触下，调整该至少一承载器的一自转方向与速度。

4.根据权利要求1所述的薄膜沉积系统，其特征在于，当该载盘固定不旋转与该中心盘旋转时，在该承载斜面与该中心斜面接触下，使得该至少一承载器进行一自转。

5.根据权利要求1所述的薄膜沉积系统，其特征在于，该至少一承载器中，只有一个承载器的承载斜面与中心斜面接触，且任两个承载器的该些承载斜面相互接触并以相反的方向旋转。

6.根据权利要求1所述的薄膜沉积系统，其特征在于，该至少一承载器中，任两个承载器的该些承载斜面相互接触并以相反方向旋转，其中一个承载斜面接触该中心斜面，另一承载斜面未接触该中心斜面。

7.根据权利要求1所述的薄膜沉积系统，其特征在于，该中心斜面或该承载斜面为一粗糙表面。

8.根据权利要求1所述的薄膜沉积系统，其特征在于，该中心斜面为半径由上往下增加的态样，该承载斜面为半径由上往下缩小的态样。

9.根据权利要求1所述的薄膜沉积系统，其特征在于，该中心斜面为半径由上往下缩小的态样，该承载斜面为半径由上往下增加的态样。

10.根据权利要求1所述的薄膜沉积系统，其特征在于，更包含一中心轴及至少一马达，其中该中心轴包含有一内层轴及一外层轴，分别连接该中心盘及该载盘，该至少一马达连接该内层轴及一外层轴，分别驱动该中心盘及该载盘旋转。

11.根据权利要求1所述的薄膜沉积系统，其特征在于，更包含有：

一旋转壳，连接该载盘；

一内齿轮，设于该旋转壳的底部；

一驱动齿轮，与该内齿轮啮合；及

一马达，连接并驱动该外齿轮。

12.根据权利要求1所述的薄膜沉积系统，其特征在于，更包含一腔壁及一盖体，其中该盖体与该腔壁结合并设有一第一扣合件，该中心盘设有一第二扣合件；该第一扣合件与第二扣合件可结合而将该中心盘固定于该盖体下方。