[发明专利]透明导电性薄膜及其制造方法有效
申请号: | 201210307081.0 | 申请日: | 2012-08-24 |
公开(公告)号: | CN102956287B | 公开(公告)日: | 2018-06-12 |
发明(设计)人: | 山崎由佳;梨木智刚;菅原英男 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B13/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透明导电性薄膜 透明导体层 挠性透明基材 尺寸变化率 触摸屏 结晶性 美观性 加热 组装 导电性金属氧化物 蚀刻 图案形成部 图案边界 开口部 台阶差 图案化 减小 制造 图案 | ||
本发明提供透明导电性薄膜及其制造方法。挠性透明基材上具有结晶性的透明导体层的透明导电性薄膜中,即使透明导体层被图案化,在组装到了触摸屏等中时,也能抑制由看到图案开口部与图案形成部的边界导致的美观性降低。一种在挠性透明基材的一个面上形成有由结晶性导电性金属氧化物形成的透明导体层的透明导电性薄膜,挠性透明基材的厚度为80μm以下。本发明的透明导电性薄膜在140℃下加热30分钟时的尺寸变化率H1与将通过蚀刻去除了透明导体层的透明导电性薄膜在140℃下加热30分钟时的尺寸变化率H2之差H1‑H2为‑0.043%~0.02%。因此,可减小组装到了触摸屏等中时图案边界处的台阶差,抑制美观性降低。
技术领域
本发明涉及在挠性透明基材的一个面上具有透明导体层的透明导电性薄膜及其制造方法。
背景技术
迄今,作为触摸屏等中使用的透明导电性薄膜,已知有在透明薄膜等挠性透明基材上层叠有由ITO等导电性金属氧化物形成的透明导体层的薄膜。近年来,可多点输入(多点触摸)的投影型静电容量方式的触摸屏、矩阵型的电阻膜方式触摸屏受到注目,在这些触摸屏中,透明导电性薄膜的透明导体层被图案化为规定形状(例如条纹状)。这种透明导电性薄膜包括在挠性透明基材上具有透明导体层的图案形成部和在挠性透明基材上不具有透明导体层的图案开口部。
透明导体层被图案化的情况下,有时起因于形成有透明导体层的部分(图案形成部)与未形成透明导体层的部分(图案开口部)之间的反射率差,可看到图案,作为显示元件的美观性变差。从抑制这种由透明导体层的有无导致的视觉识别性的差异的角度出发,提出了:在薄膜基材与透明导体层之间设置多个电介质层作为底涂层,将电介质层的折射率等调整至规定范围(例如专利文献1~4)。
专利文献1:日本特开2010-15861号公报
专利文献2:日本特开2008-98169号公报
专利文献3:日本特许第4364938号说明书
专利文献4:日本特开2009-76432号公报
发明内容
如上所述,透明导体层被图案化的情况下,要求其边界不容易被看到,在此基础上,从显示装置的轻量化、薄型化的角度出发,要求触摸屏等中使用的透明导电性薄膜薄型化。为了减小透明导电性薄膜的厚度,需要减小占其大部分厚度的薄膜基材的厚度。然而,本发明人等进行了研究,结果弄清,如果减小薄膜基材的厚度,则即使在基材与透明导体层之间设置有电介质层,在将透明导电性薄膜组装到了触摸屏中时,有时透明导体层的图案边界也容易被看到,美观性变差。尤其,在透明导体层的导电性金属氧化物为结晶性的氧化物时,存在图案形成部与图案开口部的边界容易被看到的倾向。
鉴于上述情况,本发明的目的在于提供即使在基材的厚度较小为80μm以下时,在组装到触摸屏中时透明导体层的图案也不容易被看到的透明导电性薄膜。
鉴于上述技术问题,本发明人等研究的结果发现通过减小对透明导电性薄膜进行加热时的图案形成部与图案开口部的尺寸变化率之差,透明导体层的图案变得不容易被看到,从而完成了本发明。
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