[发明专利]一种手机和真空镀膜制作方法

权利要求书

1.一种真空镀膜制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

A、利用真空蒸镀设备在塑胶基材的产品外壳表面蒸镀一层二氧化硅镀膜；

B、利用所述真空蒸镀设备在所述二氧化硅镀膜上蒸镀一层二氧化钛镀膜。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜制作方法，其特征在于：在所述步骤A之前，先将所述真空蒸镀设备的炉内环境抽至真空度为                                                的真空。

3.根据权利要求1所述的真空镀膜制作方法，其特征在于：在所述步骤A中，将氧化硅的镀膜材料放置在第一电极上，通入氧气，所述第一电极在的氧气压力环境下通电升温至1700~2000℃。

4.根据权利要求1所述的真空镀膜制作方法，其特征在于：在所述步骤B中，将五氧化三钛的镀膜材料放置第二电极上，通入氧气，所述第二电极在的氧气压力环境下通电升温至2000~2200℃。

5.一种手机，包括塑胶基材的手机外壳，其特征在于：所述手机外壳的表面设置有一层二氧化硅镀膜和一层二氧化钛镀膜，所述二氧化钛镀膜位于所述二氧化硅镀膜的外层。

6.根据权利要求5所述的手机，其特征在于：所述二氧化硅镀膜与所述手机外壳的塑料基材之间设置有一层UV下涂层，所述UV下涂层由5～20%的聚氨酯丙烯酸树脂、10～30%的甲基异丁基酮、5～15%的丙二醇甲醚、10～30%的醋酸乙酯、15～25%的醋酸丁酯、10～20%的甲苯、5～20%的活性单体和1～10%的光引发剂组成。

7.根据权利要求5所述的手机，其特征在于：在所述二氧化钛镀膜表面设置有一层中涂层，所述中涂层由10～15%的聚氨酯丙烯酸树脂、20～30%的甲基异丁酮、15～20%的丙烯酸酯树脂、15～20%的醋酸丁酯、15～20%的丁酮、1～2%的光引发剂和3～5%的活性单体组成。

8.根据权利要求7所述的手机，其特征在于：在所述中涂层表面设置有一层UV上涂层，所述UV上涂层由10～15%的聚氨酯丙烯酸树脂、10～15%的甲基异丁酮、15～20%的丙烯酸酯树脂、15～20%的丁酮、15～20%的醋酸丁酯、10～15%的甲苯、1～2%的光引发剂和3～5%的活性单体组成。

9.根据权利要求6至8中任一项所述的手机，其特征在于：所述活性单体采用硅烷偶联剂制作，所述硅烷偶联剂的通用式为，其中，n = 0～3，X表示包括氯基、甲氧基、乙氧基、甲氧基乙氧基或乙酰氧基在内的可水解基团，Y表示包括乙烯基、氨基、环氧基、甲基丙烯酰氧基、巯基或脲基在内能与树脂起反应的有机官能团。