[发明专利]埋入式元件电路板与其制作方法有效

专利信息
申请号: 201210300615.7 申请日: 2012-08-22
公开(公告)号: CN103635028B 公开(公告)日: 2017-02-08
发明(设计)人: 逢郭龙;石汉青;范字远;杨伟雄 申请(专利权)人: 健鼎(无锡)电子有限公司
主分类号: H05K3/30 分类号: H05K3/30;H05K1/18
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 陈小雯
地址: 214101 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 埋入 元件 电路板 与其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种埋入式元件电路板制作方法,包含:

提供一基材,具有铜箔层、承载层与分离层;

利用一粘着剂固定一埋入式元件于该基材之上,其中该埋入式元件包含第一端电极与第二端电极;

压合一第一绝缘胶片与一绝缘层于该基材上,其中该第一绝缘胶片与该绝缘层具有开孔对应于该埋入式元件;

涂布一绝缘胶至该第一绝缘胶片与该绝缘层的开孔中,其中该绝缘胶的高度约等于该绝缘层的高度;

压合一第二绝缘胶片与一金属层于该绝缘胶与该绝缘层之上,以形成一核心层;以及

由铜箔层上,剥离该承载层与分离层,其中,该铜箔层上形成有至少一开口,以露出该第一端电极与该第二端电极。

2.如权利要求1所述的埋入式元件电路板制作方法,还包含,利用激光移除该铜箔层,以形成该开口,该开口的长度大于宽度;以及

去除该开口中的该粘着剂,以露出该第一端电极与该第二端电极。

3.如权利要求2所述的埋入式元件电路板制作方法,其中上述的开口的该宽度介于25微米(μm)至50微米之间,该长度大于50微米。

4.如权利要求3所述的埋入式元件电路板制作方法,其中上述的开口的该宽度介于25微米(μm)至40微米之间,该长度大于100微米。

5.如权利要求1所述的埋入式元件电路板制作方法,其中上述的铜箔层在该第一端电极上形成有两个以上的该开口,而该铜箔层在该第二端电极上也形成有两个以上的该开口。

6.如权利要求5所述的埋入式元件电路板制作方法,其中上述的开口的直径约为25微米至50微米之间。

7.如权利要求1所述的埋入式元件电路板制作方法,还包含,在该利用一粘着剂固定一埋入式元件于该基材之上的步骤之前,利用激光形成该开口该铜箔层上。

8.如权利要求1所述的埋入式元件电路板制作方法,还包含:

利用激光形成该开口于该铜箔层上,且该开口是一长条形开口,由该第一端电极经一非电极区域,延伸至该第二端电极;

移除该长条形开口中的该粘着剂,以由该长条形开口中,露出该第一端电极、该第二端电极以及一非电极区域;

形成一电镀层;以及

图案化该电镀层,以形成一上方电路层、一下方电路层与两个导电窗,并且同时电性隔离该第一端电极与该第二端电极上的该两个导电窗。

9.如权利要求8所述的埋入式元件电路板制作方法,其中上述的两个导电窗的距离小于该非电极区域的长度。

10.如权利要求1所述的埋入式元件电路板制作方法,还包含:

利用激光形成该开口于该铜箔层上,且该开口是一长条形开口,由该第一端电极经一非电极区域,延伸至该第二端电极;

移除该长条形开口中的该粘着剂,以由该长条形开口中露出该第一端电极、该第二端电极以及一非电极区域;

形成一导电层;

形成一图案化的光致抗蚀剂层于该导电层之上;

形成一电镀层于该图案化的光致抗蚀剂层之中;

移除该图案化的光致抗蚀剂层;以及

蚀刻该电镀层开口中的该铜箔层与该导电层,以形成一上方电路层、一下方电路层与两个导电窗,并且同时电性隔离该第一端电极与该第二端电极上的该两个导电窗。

11.如权利要求10所述的埋入式元件电路板制作方法,其中上述的两个导电窗的距离小于该非电极区域的长度。

12.一种埋入式元件电路板,包含:

基材,具有铜箔层、承载层与分离层;

埋入式元件,其中该埋入式元件包含第一端电极与第二端电极;

粘着剂,固定该埋入式元件于该基材之上;

第一绝缘胶片与绝缘层,压合于该基材上,其中该第一绝缘胶片与该绝缘层具有开孔对应于该埋入式元件;

绝缘胶,涂布至该第一绝缘胶片与该绝缘层的开孔中,其中该绝缘胶的高度约等于该绝缘层的高度;以及

第二绝缘胶片与金属层,压合于该绝缘胶与该绝缘层之上,以形成一核心层,其中,该铜箔层上形成有至少一开口,以露出该第一端电极与该第二端电极,且当该第二绝缘胶片与该金属层,压合于该绝缘胶与该绝缘层之后,该承载层与该分离层由该基材上移除。

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