[发明专利]电子显微镜成像系统及方法

权利要求书

1.一种电子显微镜成像系统，包括：

电子显微镜，其包括电子柱和真空室，且具有光轴；

氦供应组件，其用于将氦选择性地供应到所述真空室外面所述光轴附近的氦可富含容积区；以及

在所述真空室外的样品支撑台，其设置为支撑着所述真空室外面将被所述电子显微镜成像的样品，所述样品支撑台包括平移组件，所述平移组件可操作以提供所述样品进入和离开所述氦可富含容积区的相对平移。

2.根据权利要求1所述的电子显微镜成像系统，其特征在于：所述氦供应组件包括控制件，使得只有当所述样品正在被成像时才将氦供应到所述氦可富含容积区。

3.根据权利要求1所述的电子显微镜成像系统，其特征在于：所述平移组件可操作以在所述样品支撑台静止时相对于所述样品支撑台平移所述电子显微镜。

4.根据权利要求1所述的电子显微镜成像系统，其特征在于：所述平移组件可操作以在所述电子显微镜静止时相对于所述电子显微镜平移所述样品支撑台。

5.根据权利要求1所述的电子显微镜成像系统，其特征在于：所述平移组件可操作以相对于所述电子显微镜和所述样品支撑台之一平移所述电子显微镜和所述样品支撑台中的另一个。

6.根据权利要求1所述的电子显微镜成像系统，其特征在于：所述平移组件可操作以使所述电子显微镜和所述样品支撑台相对于彼此平移。

7.根据权利要求1所述的电子显微镜成像系统，其特征在于：所述平移组件包括一对被动卷，所述一对被动卷可操作以将至少一个样品相对于所述光轴从所述一对被动卷之一平移至所述一对被动卷中的另一个。

8.一种平板显示器生产系统，包括：

至少一个第一平板显示器生产台；

在所述至少一个第一平板显示器生产台下游的至少一个检测台，包括：

电子显微镜，其包括真空室且具有光轴；

平板显示器支撑件，其设置为在所述真空室外支撑将被所述电子显微镜成像的平板显示器；以及

平移组件，其可操作以提供所述平板显示器和所述光轴之间的相对平移；以及

在所述至少一个检测台下游的至少一个第二平板显示器生产台。

9.一种半导体生产系统，包括：

至少一个第一半导体生产台；

在所述至少一个第一半导体生产台下游的至少一个检测台，包括：

电子显微镜，其包括真空室且具有光轴；

晶片支撑件，其设置为在所述真空室外支撑着将被所述电子显微镜成像的晶片；以及

平移组件，其可操作以提供所述晶片和所述光轴之间的相对平移；

以及

在所述至少一个检测台下游的至少一个第二半导体生产台。

10.一种电子显微镜成像方法，包括：

提供电子显微镜，其包括电子柱和真空室，且具有光轴；

将氦选择性地供应到所述真空室外面所述光轴附近的氦可富含容积区，由此产生被富含的氦容积；

将样品支撑在所述真空室外的样品支撑台上，且提供所述样品进入和离开所述氦可富含容积区的相对平移；以及

在所述样品处于所述被富含的氦容积内时使用所述电子显微镜成像所述样品。

11.根据权利要求10所述的电子显微镜成像方法，其特征在于：所述选择性地供应氦包括只有在所述样品正在被成像时才将氦供应到所述氦可富含容积区。

12.根据权利要求10所述的电子显微镜成像方法，其特征在于：所述相对平移包括在所述样品支撑台静止时相对于所述样品支撑台平移所述电子显微镜。

13.根据权利要求10所述的电子显微镜成像方法，其特征在于：所述相对平移包括在所述电子显微镜静止时相对于所述电子显微镜平移所述样品支撑台。

14.根据权利要求10所述的电子显微镜成像方法，其特征在于：所述相对平移包括相对于所述电子显微镜和所述样品支撑台之一平移所述电子显微镜和所述样品支撑台中的另一个。

15.根据权利要求10所述的电子显微镜成像方法，其特征在于：所述相对平移包括使所述电子显微镜和所述样品支撑台相对于彼此平移。