[发明专利]一种掩模板清洗机的夹持机构有效
申请号: | 201210292317.8 | 申请日: | 2012-08-16 |
公开(公告)号: | CN103586246A | 公开(公告)日: | 2014-02-19 |
发明(设计)人: | 海树岩 | 申请(专利权)人: | 沈阳芯源微电子设备有限公司 |
主分类号: | B08B13/00 | 分类号: | B08B13/00;B08B7/04 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 白振宇 |
地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 模板 清洗 夹持 机构 | ||
技术领域
本发明涉及掩模板清洗机设备,具体地说是一种掩模板清洗机的夹持机构。
背景技术
目前,掩模板清洗机的设备主要由主轴机构、旋转机构、夹持机构、腔体、DIW水系统、高压水系统、兆声波系统、毛刷清洗系统、有机溶剂清洗系统、气液分离系统、排废系统等组成。清洗时将掩模板装在夹持机构上,在主轴带动下旋转,同时各清洗系统依次对其进行清洗;由于各半导体生产厂的清洗机设备所清洗的掩模板尺寸不同(看尺寸差别大小),夹持机构也会有差别。此前4英寸和5英寸,5英寸和6英寸的两种掩模板可分别做成同一夹持机构,两种大小的掩模板安装于同一平面;但5英寸和7英寸的掩模板在同一平面上安装时,7英寸板的下表面会碰到5英寸板的安装挡柱,会因为干涉而无法安装到位。这样此种尺寸差别的两类掩模板在同一台清洗机清洗时,需要更换不同的夹持机构。
发明内容
为了解决不同尺寸掩模板需要更换不同夹持机构进行清洗的问题,本发明的目的在于提供一种可夹持两种不同尺寸掩模板的掩模板清洗机的夹持机构。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:
本发明包括底托,该底托上设有多个高度不同的支撑座,各支撑座围成夹持区域,每个支撑座上均安装有挡柱和支柱;尺寸小的掩模板通过高度较矮的支撑座上的支柱支撑,并通过挡柱夹持;尺寸大的掩模板通过高度较高的支撑座上的支柱支撑,并通过挡柱夹持。
其中:所述多个高度不同的支撑座设置在底托的边缘,分为矮支撑座和高支撑座,所述矮支撑座和高支撑座间隔设置;
所述底托为四边形,在四边形的四个顶点处分别设有高支撑座,相邻两高支撑座之间均设有矮支撑座,即四边形的四条边上均设有矮支撑座;
所述底托为正方形,每个矮支撑座均处于所在正方形边的中间;相对的两高支撑座之间的连线相互垂直,相对的两矮支撑座之间的连线相互垂直,并且相对的两矮支撑座之间的连线与相对的两高支撑座之间的连线夹角为45°;
各支撑座上的支柱位于挡柱的内侧;所述各支撑座上的挡柱为两个,支柱为一个,挡柱的高度高于支柱的高度;各支撑座分别通过筋板连接在底托内部中心与主轴连接处。
本发明的优点与积极效果为:
1.本发明将不同高度的支撑座间隔地设置在底托上,减少了一个底托,实现了将两种不同尺寸的掩模板安装于一个夹持机构的目的,并且类似的尺寸差别较大的两种掩模板夹持机构都可进行类似的设计,降低了制造成本。
2.本发明在生产中做两种不同尺寸掩模板的清洗转换时,不必更换夹持机构,节省时间,提高了效率。
3.因支撑台下的底托与主轴安装时有对中的精度要求,如经常拆装易造成配合表面的磨损进而影响到精度;因此,本发明可避免此原因导致的底托损坏,降低维修成本。
附图说明
图1为本发明的立体结构示意图;
图2为本发明夹持5英寸掩模板时的示意图;
图3为本发明夹持7英寸掩模板时的示意图;
其中:1为底托,2为矮支撑座,3为挡柱,4为高支撑座,5为支柱,6为5英寸掩模板,7为7英寸掩模板,8为筋板。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步详述。
如图1所示,本发明包括底托1,该底托1上设有多个高度不同的支撑座,即支撑座分为矮支撑座2和高支撑座4,矮支撑座2和高支撑座4间隔设置在底托1的边缘,各支撑座围成夹持区域,每个支撑座上均安装有挡柱3和支柱5;尺寸小的掩模板通过矮支撑座2上的支柱5支撑,并通过挡柱3夹持;尺寸大的掩模板通过高支撑座4上的支柱5支撑,并通过挡柱3夹持。
底托1为四边形,在四边形的四个顶点处分别设有高支撑座4,相邻两高支撑座4之间均设有矮支撑座2,即四边形的四条边上均设有矮支撑座2。本实施例的底托1为正方形,每个矮支撑座2均处于所在正方形边的中间;相对的两高支撑座4之间的连线相互垂直,相对的两矮支撑座2之间的连线相互垂直,并且相对的两矮支撑座2之间的连线与相对的两高支撑座4之间的连线夹角为45°。各支撑座分别通过筋板8连接在底托1内部中心与主轴连接处,以增加支撑强度。
每个矮支撑座2和每个高支撑座4的表面上均设有两个挡柱3和一个支柱5,支柱5位于档柱3的内侧,挡柱3的高度高于支柱5的高度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳芯源微电子设备有限公司,未经沈阳芯源微电子设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210292317.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种修复镉污染土壤的淋洗方法
- 下一篇:一种木片处理装置