[发明专利]一种用于非平面基材的曝光方法及曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及图形曝光技术领域，特别是涉及一种用于非平面基材的曝光方法及曝光装置。

背景技术

对于在非平面基板表面制作线路图形，现有技术一般采用激光表面改性技术以及电镀工艺来实现。激光表面改性技术由于其大幅度提高了基材表面的硬度、耐磨性等，并且能够控制成本，目前得到广泛应用。电镀工艺由于工艺成熟，目前应用也较为广泛。

但是，由于激光表面改性技术存在激光束小，导致其处理面小，因此不适应于大尺寸的非平面基材；电镀工艺采用的电镀槽是根据需要电镀的非平面基材设计的，若非平面基材的尺寸过大，则电镀槽的尺寸必须相应增大，导致电镀过程中的控制精度降低。因此电镀工艺也不适应于大尺寸的非平面基材。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种用于非平面基材的曝光方法及曝光装置，能够适应于大尺寸的非平面基材。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种用于非平面基材的曝光方法，其包括：提供非平面基材；用感光抗蚀剂覆盖非平面基材中非平面的至少一部分；使用立体曝光方法对非平面基材中非平面的至少一部分的感光抗蚀剂进行曝光。

其中，使用立体曝光方法对非平面基材中非平面的至少一部分的感光抗蚀剂进行曝光的步骤具体为：在非平面基材中非平面的每一部分均相对设置一光源，使得多个光源相对非平面基材呈立体分布；在每一光源和非平面基材中非平面的每一部分之间设置图形转移工具；利用光源照射图形转移工具，从图形转移工具透射的光线使得感光抗蚀剂发生反应，从而使得图形转移工具上的图形转移至非平面基材。

其中，用感光抗蚀剂覆盖非平面基材中非平面的至少一部分的步骤包括：将非平面基材浸入感光抗蚀剂中并取出，使得感光抗蚀剂覆盖非平面基材中非平面的至少一部分。

其中，感光抗蚀剂为树脂型光感材料。

其中，非平面基材为超材料非平面基材。

为解决上述技术问题，本发明还提供了一种曝光装置，其包括：承载部，用于承载非平面基材，非平面基材中非平面的至少一部分覆盖有感光抗蚀剂；至少一光源，相对承载部设置；图形转移工具，设置于光源与非平面基材之间的光路之中；其中，至少一光源和图形转移工具使用立体曝光方法对非平面基材中非平面的至少一部分的感光抗蚀剂进行曝光。

其中，装置包括：溶液槽，用于盛载感光抗蚀剂；操作机构，用于将非平面基材浸入感光抗蚀剂中并取出，使得非平面基材中非平面的至少一部分覆盖有感光抗蚀剂，再将非平面基材置入承载部。

其中，光源为多个，多个光源相对承载部呈立体分布，以使非平面基材中非平面的每一部分均相对设置有一光源。

其中，感光抗蚀剂为树脂型光感材料。

其中，非平面基材为超材料非平面基材。

本发明的用于非平面基材的曝光方法及曝光装置通过在非平面基材中非平面的至少一部分覆盖感光抗蚀剂，再使用立体曝光方法对感光抗蚀剂进行曝光，光照范围足够大，光照强度及光照时间容易控制，适应于对大尺寸的非平面基材的曝光处理。

附图说明

图1是本发明曝光方法一实施方式的流程图；

图2是图1所示的曝光方法的具体流程图；

图3是本发明曝光装置一实施方式的俯视示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施方式中的附图，对本发明实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本发明一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本发明中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，均属于本发明保护的范围。

请参阅图1，图1是本发明曝光方法一实施方式的流程图。曝光方法包括以下步骤：

步骤S10：提供非平面基材。

其中，非平面基材的表面不是平面，例如非平面基材呈半球形或锥体形。在本实施方式中，非平面基材是超材料非平面基材。超材料是指具有天然材料所不具备的超常物理性质的人工复合结构或复合材料。通过在材料的关键物理尺度上的结构有序设计，可以突破某些表观自然规律的限制，从而获得超出自然界固有的普通性质的超常材料功能。超材料的性质和功能主要来自于其内部的结构而非构成它们的材料。

步骤S20：用感光抗蚀剂覆盖非平面基材中非平面的至少一部分。