[发明专利]一种用于非平面基材的曝光方法及曝光装置

权利要求书

1.一种用于非平面基材的曝光方法，其特征在于，所述方法包括：

提供非平面基材；

用感光抗蚀剂覆盖所述非平面基材中非平面的至少一部分；

使用立体曝光方法对所述非平面基材中非平面的至少一部分的感光抗蚀剂进行曝光。

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述使用立体曝光方法对所述非平面基材中非平面的至少一部分的感光抗蚀剂进行曝光的步骤具体为：

在所述非平面基材中非平面的每一部分均相对设置一光源，使得多个所述光源相对非平面基材呈立体分布；

在每一所述光源和非平面基材中非平面的每一部分之间设置图形转移工具；

利用所述光源照射图形转移工具，从所述图形转移工具透射的光线使得感光抗蚀剂发生反应，从而使得所述图形转移工具上的图形转移至非平面基材。

3.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述用感光抗蚀剂覆盖非平面基材中非平面的至少一部分的步骤包括：

将所述非平面基材浸入感光抗蚀剂中并取出，使得所述感光抗蚀剂覆盖非平面基材中非平面的至少一部分。

4.根据权利要求3所述的曝光方法，其特征在于，所述感光抗蚀剂为树脂型光感材料。

5.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述非平面基材为超材料非平面基材。

6.一种用于非平面基材曝光装置，其特征在于，所述装置包括：

承载部，用于承载非平面基材，所述非平面基材中非平面的至少一部分覆盖有感光抗蚀剂；

至少一光源，相对所述承载部设置；

图形转移工具，设置于所述光源与非平面基材之间的光路之中；

其中，所述至少一光源和图形转移工具使用立体曝光方法对所述非平面基材中非平面的至少一部分的感光抗蚀剂进行曝光。

7.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述装置包括：

溶液槽，用于盛载感光抗蚀剂；

操作机构，用于将所述非平面基材浸入感光抗蚀剂中并取出，使得所述非平面基材中非平面的至少一部分覆盖有感光抗蚀剂，再将所述非平面基材置入承载部。

8.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述光源为多个，多个所述光源相对承载部呈立体分布，以使所述非平面基材中非平面的每一部分均相对设置有一光源。

9.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述感光抗蚀剂为树脂型光感材料。

10.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述非平面基材为超材料非平面基材。