[发明专利]烧结钕铁硼表面镍铜镍镀层的退镀液及其退镀工艺有效
申请号: | 201210265778.6 | 申请日: | 2012-07-30 |
公开(公告)号: | CN102787321A | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 牛庆章;牛凯;牛凯莉 | 申请(专利权)人: | 牛凯 |
主分类号: | C23G1/19 | 分类号: | C23G1/19 |
代理公司: | 宁波市天晟知识产权代理有限公司 33219 | 代理人: | 张嘉铭 |
地址: | 315040 浙江省宁波市江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 烧结 钕铁硼 表面 镍铜镍 镀层 退镀液 及其 工艺 | ||
技术领域
本发明涉及一种对钕铁硼表面镀层的电镀次品进行退镀的退镀液及其使用退镀液实施退镀的工艺。具体地说是一种烧结钕铁硼表面镍铜镍镀层的退镀液及其退镀工艺。
背景技术
钕铁硼稀土永磁材料自上世纪80年代发展至今,已在电子工业、汽车制造业、风力发电、航空、航天等高科技领域获得了高速发展和广泛的应用。但由于其化学活性强,表面易被氧化、腐蚀,最终易使磁体表面及结构发生变化,磁性能急剧下降,最终出现爆碎现象。所以为了提高钕铁硼产品的防腐性,保证其磁性能不下降,有必要在钕铁硼表面进行防腐处理。因此,促使该行业的表面处理防腐工程应运而生,且取得了令人满意的成绩。目前,常规的处理方式其中就有镀镍铜镍工艺,占市场约三分之二的比例。因产品镀镍铜镍可以提高产品的防腐性及抗磨损性,改善产品表面的外观效果为银白色,且不影响产品的磁通使用效果,受到广大生产厂家的好评。因此,在钕铁硼行业中,钕铁硼镀镍铜镍的工艺产品前景广阔。但是,在钕铁硼镀镍铜镍工艺生产过程中,难免会产生一定量的不良品或返工品,如不及时返工处理,可能要造成大量的报废,给制造商造成巨大的损失。所以,如何对钕铁硼镀镍铜镍层的电镀次品进行退镀处理提到了十分重要的位置,引起了钕铁硼稀土永磁材料行业的高度重视。
由于钕铁硼稀土永磁材料的特殊性,一般的酸性退镀液是绝对不能使用的,否则会造成磁体彻底报废。现时,钕铁硼不良镀层或电镀次品的退镀常采用剧毒氰化钠退镀工艺,其配方和工艺如下:
氰化钠:50-90g/L,防染盐S:90-160g/L,氨水:5-8ml/L,PH值:9-11,温度 60-80℃。
由于氰化钠是剧毒化学品,在使用过程中,易污染环境且挥发大量的有毒气体,对操作人员有致命的危害。国家对剧毒化学品的采购、运输、储存等都有极其严格的控制。且国家也逐步地禁止含氰药品的使用。另外,如使用其他含有强酸或强碱的退镀工艺时,当产品表面镀层退除后,产品的基体已经严重腐蚀,完全失去其利用价值,造成严重的报废。虽然目前也有分步骤无氰的退镀方法,但操作步骤繁琐,效率低下。
随着烧结钕铁硼表面镀镍铜镍镀层的广泛利用,开发出一种对烧结钕铁硼基体损伤小,能够快速、同步退除表面镍铜镍镀层,且不影响产品公差及磁通量,以达到满足烧结钕铁硼的电镀次品再利用,基本实现产品的零报废目标,提高产品的合格率的退镀液和操作更方便的退镀工艺已成为行业和社会的企盼。
发明内容
本发明之目的是改变上述缺陷和不足,向社会公开一种烧结钕铁硼镀层时对钕铁硼基体损伤较小,能够快速、同步退除表面镍铜镍镀层,且不影响产品公差及磁通量,以达到满足烧结钕铁硼的电镀次品再利用,基本实现产品的零报废目标,提高产品的合格率的退镀液。
本发明之另一个目的是公开一种操作方便的使用上述烧结钕铁硼表面镍铜镍镀层的退镀液的退镀工艺。
本发明解决上述技术问题所采用的技术方案如下:
一种烧结钕铁硼表面镍铜镍镀层的退镀液,其特征在于:溶剂为去离子水或干净的自来水,溶质的各组分及其含量有:
防染盐S 60-90g/L,
乙二胺 120-150 ml/L,
无机酸 50-100ml/L
防腐络合剂 20-40g/L。
优化本技术方案的措施是:
所述的溶质中还有起催化剂作用的表面活性剂,其含量是0.5- 1g/L。
所述的退镀液的PH值为:10-11。
所述的防腐络合剂为柠檬酸钠或柠檬酸三铵,且含量都为20-40g/L。
所述的无机酸为硝酸,含量为50-100ml/L或硝酸铵,含量为50-100g/L。
所述的表面活性剂为硫氰酸钾或硫氰酸钠或硫氰酸氨,且含量都为0.5- 1g/L。
一种使用上述的烧结钕铁硼表面镍铜镍镀层的退镀液的退镀工艺,其特征在于具体操作步骤如下:
步骤一:准备退镀槽
退镀槽应由玻璃、PP或PVC塑料材料制成,上面标有以“L”容积单位的刻度或另外配备量杯一个,洗净备用;
步骤二:配置退镀液
1)加去离子水或干净的自来水至退镀槽槽体所需的位置处,而后按含量60-90g/L加入所需的防染盐S;
2) 按含量20-40g/L加入所需的防腐络合剂:柠檬酸钠或柠檬酸三铵;
3) 待防染盐S和防腐络合剂完全溶解后,按含量120-150 ml/L加入所需的乙二胺;
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