[发明专利]彩膜基板的制备方法、彩膜基板及半反半透式液晶显示装置有效
| 申请号： | 201210265595.4 | 申请日： | 2012-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN102778781A | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | 惠官宝;张锋;崔承镇 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 制备 方法 半反半透式 液晶 显示装置 | ||
1.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、制备黑矩阵的掩模板，针对特定颜色亚像素在黑矩阵的掩模板上设有特定的光孔填充图案；
S2、制备彩膜的掩模板，针对不同颜色亚像素制备的彩膜的掩模板上设有大小相同的通光孔；且所述通光孔的位置与所述光孔填充图案的位置相对应；
S3、利用所述黑矩阵的掩模板和所述彩膜的掩模板制备彩膜基板。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法在步骤S3后还包括在彩膜层表面生成有机平坦层。
3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述彩膜基板的红色亚像素彩膜实际通光孔、绿色亚像素彩膜实际通光孔和蓝色亚像素彩膜实际通光孔的比例范围为1:0.9:0.8至1:6:2。
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述彩膜基板的红色亚像素彩膜实际通光孔、绿色亚像素彩膜实际通光孔和蓝色亚像素彩膜实际通光孔的比例为1:2:0.5。
5.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，步骤S1、步骤S2的执行顺序互换。
6.如权利要求3所述的方法，其特征在于，步骤S1、步骤S2的执行顺序互换。
7.如权利要求4所述的方法，其特征在于，步骤S1、步骤S2的执行顺序互换。
8.一种利用权利要求1至7任一所述的方法制备的彩膜基板，其特征在于，包括彩膜层和黑矩阵层，对于特定颜色的亚像素彩膜通光孔被特定的黑矩阵的光孔填充图案遮挡。
9.一种半反半透式液晶显示装置，其特征在于，所述显示装置包括显示面板，所述显示面板包括薄膜晶体管阵列基板和权利要求8所述的彩膜基板。
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