[发明专利]一种低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品

权利要求书

1.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、第一介质层、红外反射层和第二介质层，第一介质层设置在玻璃基板之上，红外反射层设置在第一介质层之上，第二介质层设置在红外反射层之上，其特征在于：第一介质层和第二介质层中至少有一层包括ZnSnMgOx膜层或ZnSnNiOx膜层，其中x的范围为0<x<4。

2.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述红外反射层为银层或含银的合金层。

3.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：在所述第一介质层和所述红外反射层之间设置第一阻隔层，所述第一阻隔层的厚度为0.5～10nm。

4.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：在所述红外反射层和所述第二介质层之间设置第二阻隔层，所述第二阻隔层的厚度为0.5～10nm。

5.根据权利要求3或4所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述阻隔层的材料为从Ti、Ni、Cr、Al、Zr、Zn、Nb、Ta等金属及其合金的金属、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中选择至少一种。

6.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：还包括保护层，所述保护层作为最外层而设置在第二介质层之上，所述保护层的厚度为0.5～50nm。

7.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：当该低辐射镀膜玻璃中含有ZnSnMgOx膜层时，在所述ZnSnMgOx膜层中，按照原子数量计算，(Zn+Mg)/Sn的比例在0.5～4之间，Mg/(Zn+Mg)的比例在0.005～0.5之间；当该低辐射镀膜玻璃中含有ZnSnNiOx膜层时，在所述ZnSnNiOx膜层中，按照原子数量计算，(Zn+Ni)/Sn的比例在0.5～4之间，Ni/(Zn+Ni)的比例在0.005～0.5之间。

8.根据权利要求7所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：当该低辐射镀膜玻璃中含有ZnSnMgOx膜层时，在所述ZnSnMgOx膜层中，按照原子数量计算，(Zn+Mg)/Sn的比例在1.5～2.5之间，Mg/(Zn+Mg)的比例在0.01～0.25之间；当该低辐射镀膜玻璃中含有ZnSnNiOx膜层时，在所述ZnSnNiOx膜层中，按照原子数量计算，(Zn+Ni)/Sn的比例在1.5～2.5之间，Ni/(Zn+Ni)的比例在0.01～0.25之间。

9.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：当该低辐射镀膜玻璃中含有ZnSnMgOx膜层时，所述ZnSnMgOx膜层是由采用ZnSnMg合金靶材，或者采用陶瓷靶材磁控溅射沉积的；当该低辐射镀膜玻璃中含有ZnSnNiOx膜层时，所述ZnSnNiOx膜层是由采用ZnSnNi合金靶材，或者采用陶瓷靶材磁控溅射沉积的。

10.根据权利要求9所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述靶材的结构为旋转靶或平面靶。

11.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层的厚度为20～50nm，所述红外反射层的厚度为8～15nm，所述第二介质层的厚度为20～60nm。

12.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层或所述第二介质层中还包括非ZnSnMgOx或ZnSnNiOx膜层，所述非ZnSnMgOx或ZnSnNiOx膜层的材料为从Zn、Sn、Mg、Ti、Ta、Nb、Bi、Zr、Si、Al等金属及其合金的氧化物中选择至少一种，或者从Si、Al、Ti、Ta、Zr、Nb等金属及其合金的氮化物、氮氧化物中选择至少一种。

13.一种夹层玻璃制品，包括两块玻璃和夹在两块玻璃之间的中间层，其特征在于：两块玻璃中至少一块选自权利要求1-12任意一项所述的低辐射镀膜玻璃，所述低辐射镀膜玻璃的镀膜位于靠近中间层的一面。