[发明专利]双侧冷却功率半导体模块及使用该模块的多堆叠功率半导体模块包有效

专利信息
申请号: 201210254677.9 申请日: 2012-07-20
公开(公告)号: CN103378018A 公开(公告)日: 2013-10-30
发明(设计)人: 金洸洙;李荣基;朴志贤;徐范锡 申请(专利权)人: 三星电机株式会社
主分类号: H01L23/367 分类号: H01L23/367
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 翟洪玲;董彬
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 冷却 功率 半导体 模块 使用 堆叠
【权利要求书】:

1.一种双侧冷却功率半导体模块,该双侧冷却功率半导体模块包括:

第一冷却器,该第一冷却器的一个表面上沿厚度方向形成有凹部;

第一半导体芯片,该第一半导体芯片安装在所述第一冷却器的所述凹部上;

第二冷却器,该第二冷却器具有一个表面和另一个表面并且形成在所述第一冷却器的一个表面上,使得所述第二冷却器的所述一个表面与所述第一半导体芯片接触;

电路板,该电路板形成在所述第二冷却器的所述另一个表面上;

第二半导体芯片,该第二半导体芯片安装在所述电路板上;以及

挠性基板,该挠性基板具有电路层,该电路层将所述第一半导体芯片和所述第二半导体芯片相互电连接。

2.根据权利要求1所述的双侧冷却功率半导体模块,其中,所述挠性基板粘附于所述第一冷却器和第二冷却器的外周面。

3.根据权利要求1所述的双侧冷却功率半导体模块,其中,该双侧冷却功率半导体模块还包括:

第一绝缘层,该第一绝缘层形成在所述第一冷却器的所述凹部的底表面上;以及

第一电路图案,该第一电路图案形成在所述第一绝缘层上,

其中所述第一半导体芯片结合于所述第一电路图案,

所述挠性基板的所述电路层包括电路图案和通路,并且

所述通路将所述第一电路图案和所述电路图案相互电连接。

4.根据权利要求3所述的双侧冷却功率半导体模块,其中,所述第一电路图案包括栅极图案和发射极图案。

5.根据权利要求1所述的双侧冷却功率半导体模块,其中,该双侧冷却功率半导体模块还包括:

第二绝缘层,该第二绝缘层形成在所述第二冷却器的一个表面上;以及

第二电路图案,该第二电路图案形成在所述第二绝缘层上,

其中所述第一半导体芯片结合于所述第二电路图案。

6.根据权利要求5所述的双侧冷却功率半导体模块,其中,所述第二电路图案为集电极图案。

7.根据权利要求1所述的双侧冷却功率半导体模块,其中,所述第一半导体芯片包括绝缘栅双极型晶体管和二极管。

8.根据权利要求7所述的双侧冷却功率半导体模块,其中,该双侧冷却功率半导体模块还包括垫片,该垫片设置在所述绝缘栅双极型晶体管和所述第二冷却器的一个表面之间。

9.根据权利要求1所述的双侧冷却功率半导体模块,其中,所述第二半导体芯片为控制元件。

10.根据权利要求1所述的双侧冷却功率半导体模块,其中,所述第一冷却器和第二冷却器中的每一个的内部沿长度方向形成有至少一个冷却通道。

11.一种多堆叠功率半导体模块包,该多堆叠功率半导体模块包包括:

第1-1冷却器,该第1-1冷却器的一个表面上沿厚度方向形成有第一凹部;

第1-1半导体芯片,该第1-1半导体芯片安装在所述第1-1冷却器的第一凹部上;

第1-2冷却器,该第1-2冷却器形成在所述第1-1冷却器的一个表面上,使得所述第1-2冷却器的一个表面上沿厚度方向形成有第二凹部,另一个表面与所述第1-1半导体芯片接触;

第1-2半导体芯片,该第1-2半导体芯片安装在所述第1-2b冷却器的第二凹部上;

第二冷却器,该第二冷却器具有一个表面和另一个表面并且形成在所述第1-2冷却器的一个表面上,使得所述第二冷却器的一个表面与所述第1-2半导体芯片接触;

电路板,该电路板形成在所述第二冷却器的所述另一个表面上;

第二半导体芯片,该第二半导体芯片安装在所述电路板上;

第一挠性基板,该第一挠性基板形成有电路层,该电路层将所述第1-1半导体芯片和所述第二半导体芯片相互电连接;以及

第二挠性基板,该第二挠性基板形成有电路层,该电路层将所述第1-2半导体芯片和所述第二半导体芯片相互电连接。

12.根据权利要求11所述的多堆叠功率半导体模块包,其中,所述第一挠性基板粘附于所述第1-1冷却器、所述第1-2冷却器和所述第二冷却器的外周面。

13.根据权利要求11所述的多堆叠功率半导体模块包,其中,所述第二挠性基板粘附于所述第1-2冷却器和所述第二冷却器的外周面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电机株式会社,未经三星电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210254677.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top