[发明专利]输送装置

说明书

技术领域

本发明涉及沿着腔室内的路径输送基板的输送装置。

背景技术

在专利文献1中，公开了使用齿条－小齿轮机构，输送基板托盘的薄膜形成装置。

专利文献1：日本特开2006－118008号公报

发明内容

近年来，随着基板的大型化，在支承基板的基板支承体的重量增加的过程中，变得无法忽视由齿条－小齿轮机构产生的微粒，要求减少微粒。

因此，本发明是鉴于以往的问题而提出的，其目的在于，提供一种抑制微粒产生的输送装置。

本发明的输送装置的特征在于，该输送装置包括：腔室；基板支承体，支承基板，并能够沿着上述腔室内的路径移动；第1磁齿条，具有呈直线排列于上述基板支承体的多个齿条磁铁；第1磁小齿轮，具有多个小齿轮磁铁，配置于上述第1磁齿条的侧方，与上述第1磁齿条磁耦合；以及支承构件，以使上述基板支承体能够移动的方式支承该基板支承体，通过使上述第1磁小齿轮旋转而使上述基板支承体移动。

本发明的另一输送装置的特征在于，该输送装置包括：腔室；基板支承体，支承基板，并能够沿着上述腔室内的路径移动；第1磁齿条，设于上述基板支承体；第1磁小齿轮；以及支承构件，以使上述基板支承体能够移动的方式支承该基板支承体，通过使上述第1磁小齿轮旋转而使上述基板支承体移动。

根据本发明，能提供抑制微粒产生的输送装置。

附图说明

图1是本发明的第1实施方式的基板处理装置的概略图。

图2是图1的基板输送装置的概略剖视图。

图3A、3B是说明图1的上部磁体的放大图。

图4A、4B是图1的磁齿条和磁小齿轮的放大图。

图5A－5D是变形例的磁小齿轮的俯视图。

图6是变形例的磁齿条的俯视图。

图7是变形例的磁齿条的侧视图。

图8是变形例的磁齿条和磁小齿轮的概略图。

图9A、9B是变形例的磁齿条和磁小齿轮的概略图。

图10A、10B是变形例的磁齿条和磁小齿轮的概略图。

图11是变形例的磁齿条和磁小齿轮的概略图。

图12是变形例的磁齿条和磁小齿轮的概略图。

图13是变形例的磁齿条和磁小齿轮的概略图。

附图标记说明

1A、1B、腔室；2、基板；3、支承构件（引导辊）；4、基板支承体；5、下部磁小齿轮；5a、第1磁小齿轮；5b、第2磁小齿轮；5c、第3磁小齿轮；6、下部磁齿条（第1磁齿条）；7、电动机；8a、8b、磁铁；9a、9b、磁铁；10、磁驱动部；12、隔壁；13、旋转传递部件；14、轨道；15、上部磁小齿轮；15a、第4磁小齿轮；15b、第5磁小齿轮；15c、第6磁小齿轮；16、上部磁齿条（第2磁齿条）；25、磁性体小齿轮；50、第1轴；51、驱动轴；55a、第7磁小齿轮；55b、第8磁小齿轮；150、第2轴。

具体实施方式

以下，参照附图说明用于实施本发明的方式。图1是本发明的第1实施方式的基板处理装置的概略侧视图。图2是本发明的基板处理装置的侧剖视图。

如图1所示，基板处理装置1包括腔室1A和通过闸阀11与该腔室1A连接的腔室1B。作为腔室1A，能列举例如加载互锁真空腔室、溅射成膜用腔室、CVD成膜用腔室、蚀刻腔室等。作为腔室1B，能列举例如卸载互锁真空腔室、溅射成膜用腔室、CVD成膜用腔室、蚀刻腔室等。各腔室是与未图示的排气部件连接，能够排气成减压气氛的壳体。另外，在本例中示出了两个腔室，但是不限定于此，基板处理装置1也可以包含3个以上的腔室。

图2是基板输送装置的概略剖视图。如图2所示，纵向配置的基板支承体4在与行进方向垂直的截面中，具有倾斜的两个矩形的侧面（基板支承面；第1面），利用其侧面分别能够支承矩形的基板2。即，基板支承体4具有倾斜侧壁4a、4b和以连结该倾斜侧壁4a、4b各自的上端部的方式平坦地配置的上壁4c。倾斜侧壁4a、4b以它们之间的间隔随着朝向下方去而变大的方式配置。基板2能够是纵向为1700mm以上且横向为1300mm以上的大型的矩形基板，但是尺寸、形状不限定于此，也可以是例如圆盘状的基板。基板支承体4能够是纵向为2000mm以上且横向为1700mm以上。在基板支承体4的倾斜侧壁4a、4b的内侧（基板支承面的相反侧；第2面侧），在整个水平方向的范围内设有卡合构件（以下称为轨道）14。卡合构件14既可以具有曲面状的槽，也可以只具有能够滑动的平面。