[发明专利]光调制装置有效
申请号: | 201210229391.5 | 申请日: | 2012-07-03 |
公开(公告)号: | CN102866512A | 公开(公告)日: | 2013-01-09 |
发明(设计)人: | 平山雅裕;阿部务 | 申请(专利权)人: | 住友电工光电子器件创新株式会社 |
主分类号: | G02F1/01 | 分类号: | G02F1/01 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 陈源;张天舒 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 调制 装置 | ||
技术领域
本发明涉及光调制装置,具体地,涉及具有匹配电路的光调制装置。
背景技术
将对传输的光进行调制的光调制器用于光模块等以便进行高速光通信。光调制器根据输入电信号来调制光信号的强度。例如,日本专利申请公开第2005-252251号公开了具有EA(电吸收)光调制器的光模块。
发明内容
本发明的一个目的是提供获得稳定特性的光调制装置。
根据本发明的一方面,提供了一种光调制装置,包括:光调制器;绝缘层;RC电路,其包括串联连接的电阻器和电容器;接合线,其连接在所述光调制器和所述RC电路之间;第一金属层,提供在所述绝缘层上;以及第二金属层,其具有比所述第一金属层的宽度更大的宽度并且提供在所述绝缘层上,所述第二金属层与地电位连接,并且经由所述第一金属层连接到所述RC电路。
附图说明
图1A示出了光调制装置的俯视图。
图1B示出了沿着图1A的线A-A截取的示意性截面视图。
图2示出了根据比较示例的光调制装置的电路示图。
图3A示出了根据第一实施例的光调制装置的俯视图。
图3B示出了沿着图3A的线A-A截取的示意性截面视图。
图4示出了根据第一实施例的光调制装置的电路示图。
图5A示出了根据第二实施例的光调制装置的俯视图。
图5B示出了沿着图5A的线A-A截取的示意性截面视图。
图6示出了根据第二实施例的光调制装置的电路示图。
图7A示出了根据第三实施例的光调制装置的俯视图。
图7B示出了沿着图7A的线A-A截取的示意性截面视图。
图8A示出了根据第四实施例的电介质衬底的俯视图。
图8B示出了根据第四实施例的光调制装置的俯视图。
图9示出了根据第四实施例的变型实施例的光调制装置的俯视图。
图10A示出了根据第五实施例的光模块在卸下盖时的俯视图。
图10B示出了沿着图10A的线A-A截取的截面视图。
具体实施方式
信号输入到的光调制器的电极利用匹配电路以预定的阻抗终接。匹配电路包括接合线。阻抗匹配条件根据接合线的长度而波动。因此,当在光调制装置的制造过程期间各接合线之间存在长度差异时,阻抗发生波动。因此,没有获得期望的光调制装置的特性。
首先,给出根据比较示例的光调制装置101的描述。图1A示出了光调制装置101的俯视图。图1B示出了沿着图1A的线A-A截取的示意性截面视图。如图1A和图1B所示,光调制装置101具有这样的结构:其中,在由氧化铝、陶瓷等构成的电介质衬底50的上表面上提供由金、铜等构成的金属层58。金属层58包括金属层52和金属层54。金属层52和金属层54电绝缘。金属层52与诸如地电位之类的恒定电位相连。在金属层52上提供电介质衬底41和光调制器10。电介质衬底41由氧化铝、陶瓷等构成。电介质衬底41的下表面接触到金属层52。在电介质衬底41的上表面上提供由诸如金或铜之类的金属层构成的布线图42。布线图42和金属层52形成作为分布式线路(distributed line)40(传输线路)的微带线。
分布式线路40将输入信号传输到光调制器10。光调制器10在其上表面上具有电极11,输入信号被输入到电极11。电极11具有条形电极11a和耦接到条形电极11a的贴片电极(padel ectrode)11b。接合线32的第一端接合到贴片电极11b。接合线32的第二端接合到分布式线路40的边缘。因而,分布式线路40的边缘电耦接到电极11。光调制器10是例如EA调制器,并且根据输入信号来调制输出信号。
在金属层54上提供片状电容器20。在片状电容器20的上表面上提供电极22,并且在片状电容器20的下表面上提供电极24。片状电容器20的下表面上的电极24被提供在金属层54上以便电耦接到金属层54。接合线30的第一端接合到贴片电极11b。接合线30的第二端接合到在片状电容器20的上表面上的电极22。因而,电极11电耦接到片状电容器20的电极22。电阻器元件14的第一端电耦接到金属层54。电阻器元件14的第二端电耦接到金属层52。接合线30和接合线32由诸如金之类的金属构成。
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