[发明专利]半导体封装件及其制法无效

专利信息
申请号: 201210225426.8 申请日: 2012-06-29
公开(公告)号: CN103383940A 公开(公告)日: 2013-11-06
发明(设计)人: 蔡芳霖;刘正仁;江政嘉;施嘉凯;童世豪 申请(专利权)人: 矽品精密工业股份有限公司
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L23/31;H01L21/98
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 封装 及其 制法
【权利要求书】:

1.一种半导体封装件,其包括:

封装胶体,其具有相对的第一表面与第二表面,且于该封装胶体的第一表面上形成有至少一开孔;

多个第一半导体组件,其相互堆栈且封埋于该封装胶体中;

导电层,其形成于该些第一半导体组件所堆栈成的结构表面,以电性导通各该第一半导体组件,且至少一该第一半导体组件上的部分导电层外露出该开孔;以及

第一线路层,其形成于该封装胶体的第一表面上,以经该开孔电性连接该导电层。

2.根据权利要求1所述的半导体封装件,其特征在于,该些第一半导体组件的堆栈方式为阶梯状堆栈。

3.根据权利要求1所述的半导体封装件,其特征在于,该第一半导体组件的表面上具有绝缘层,且该绝缘层露出该第一半导体组件的部分表面,令该导电层形成于该绝缘层上且电性连接该第一半导体组件的外露表面。

4.根据权利要求1所述的半导体封装件,其特征在于,该第一半导体组件外露于该封装胶体的第二表面。

5.根据权利要求1所述的半导体封装件,其特征在于,该半导体封装件还包括第二线路层,其设于该封装胶体的第二表面上,且电性连接该第一半导体组件。

6.根据权利要求5所述的半导体封装件,其特征在于,该半导体封装件还包括至少一第二半导体组件,其设于该第二线路层上,且电性连接该第二线路层。

7.根据权利要求1所述的半导体封装件,其特征在于,该半导体封装件还包括至少一第二半导体组件,其嵌埋于该封装胶体的第二表面中。

8.根据权利要求7所述的半导体封装件,其特征在于,该第二半导体组件电性连接该第一半导体组件。

9.根据权利要求8所述的半导体封装件,其特征在于,该导电层还形成于该封装胶体的第二表面与该第二半导体组件的表面上,使该第二半导体组件电性连接该第一半导体组件。

10.根据权利要求7所述的半导体封装件,其特征在于,该半导体封装件还包括线路增层结构,其形成于该封装胶体的第二表面上,且电性连接该第一与第二半导体组件。

11.根据权利要求10所述的半导体封装件,其特征在于,该线路增层结构具有至少一介电层及设于该介电层上的第二线路层,该第二线路层电性连接该第一与第二半导体组件。

12.根据权利要求10所述的半导体封装件,其特征在于,该半导体封装件还包括散热结构,其设于该线路增层结构上。

13.根据权利要求1所述的半导体封装件,其特征在于,该半导体封装件还包括散热结构,其设于该封装胶体的第二表面上。

14.一种半导体封装件的制法,其包括:

堆栈多个第一半导体组件于一承载板上;

于该些第一半导体组件所堆栈成的结构表面上形成导电层,以电性导通各该第一半导体组件;

形成封装胶体于该承载板上,以包覆各该第一半导体组件与导电层,且该封装胶体具有相对的第一表面与第二表面,该第二表面系结合至该承载板;

形成至少一开孔于该封装胶体的第一表面上,以令至少一该第一半导体组件上的部分导电层外露出该开孔;以及

形成第一线路层于该封装胶体的第一表面上,且该第一线路层经该开孔电性连接该导电层。

15.根据权利要求14所述的半导体封装件的制法,其特征在于,该些第一半导体组件的堆栈方式为阶梯状堆栈。

16.根据权利要求14所述的半导体封装件的制法,其特征在于,该制法还包括形成该导电层之前,形成绝缘层于该些第一半导体组件的表面上,且该绝缘层露出该第一半导体组件的部分表面,令该导电层形成于该绝缘层上。

17.根据权利要求14所述的半导体封装件的制法,其特征在于,该制法还包括移除该承载板。

18.根据权利要求17所述的半导体封装件的制法,其特征在于,该制法还包括形成第二线路层于该封装胶体的第二表面上,且该第二线路层电性连接该第一半导体组件。

19.根据权利要求18所述的半导体封装件的制法,其特征在于,该制法还包括置放至少一第二半导体组件于该第二线路层上,且该第二半导体组件电性连接该第二线路层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于矽品精密工业股份有限公司,未经矽品精密工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210225426.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top