[发明专利]一种信息获取方法、设备及电容有效

专利信息
申请号: 201210222504.9 申请日: 2012-06-28
公开(公告)号: CN103513113B 公开(公告)日: 2017-03-01
发明(设计)人: 阳光;李琦 申请(专利权)人: 联想(北京)有限公司
主分类号: G01B7/02 分类号: G01B7/02
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 代理人: 黄志华
地址: 100085 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 信息 获取 方法 设备 电容
【说明书】:

技术领域

发明涉及电子领域,特别涉及一种信息获取方法、设备及电容。

背景技术

现有技术中,在测量手与另一导体(例如铜片)之间的距离时,可以通过测量它们之间的电容值来实现。

但在测量它们之间的电容值时,测量结果往往不稳定。例如,手与铜片之间的距离为8cm,此时测得的电容值为30pf,在手与铜片之间的距离没发生变化时继续测量,第二次测得的电容值可能会变成50pf,如果再次进行测量可能还会得到不同的结果。这样就很难根据测得的电容值得到手与铜片之间的确切距离。

发明内容

本发明实施例提供一种信息获取方法、设备及电容,用于解决现有技术中无法准确获得距离的技术问题,实现了较为准确地获得距离的技术效果。

一种信息获取设备,包括:

检测装置,用于对第一电容层的电容值进行检测,获得第一电容值,其中,所述第一电容层中包括的第一导体的内侧设置有用于提高电容测量准确度的物质层;

获取装置,用于根据所述第一电容值获得所述第一电容层的距离。

较佳的,所述物质层为半导体层。

较佳的,所述半导体为水、油脂或硅。

较佳的,所述第一导体为铜片、银片、金片或铝片。

较佳的,所述检测装置与所述第一导体的外侧相连。

较佳的,所述获取装置具体用于:根据所述第一电容值及第一公式获得所述第一电容层的距离;所述第一公式为:εS/4πkd;其中,ε为介电常数,S为所述第一电容层的横截面面积,k为静电力常量,d为所述第一电容层的距离。

一种电容,所述电容中包括的第一导体的内侧设置有用于提高电容测量准确度的物质层。

较佳的,所述物质层为半导体层。

较佳的,所述半导体为水、油脂或硅。

较佳的,所述第一导体为铜片、银片、金片或铝片。

一种信息获取方法,包括以下步骤:

对第一电容层的电容值进行检测,获得第一电容值,其中,所述第一电容层中的第一导体的内侧设置有用于提高电容测量准确度的物质层;

根据所述第一电容值获得所述第一电容层的距离。

较佳的,所述物质层为半导体层。

较佳的,所述半导体为水、油脂或硅。

较佳的,所述第一导体为铜片、银片、金片或铝片。

较佳的,根据所述电容值获得所述第一电容层的距离的步骤为:根据所述电容值及第一公式获得所述第一电容层的距离;所述第一公式为:εS/4πkd;其中,ε为介电常数,S为所述第一电容层的横截面面积,k为静电力常量,d为所述第一电容层的距离。

本发明实施例中的信息获取设备包括检测装置,用于对第一电容层的电容值进行检测,获得第一电容值,其中,所述第一电容层中包括的第一导体的内侧设置有用于提高电容测量准确度的物质层;获取装置,用于根据所述第一电容值获得所述第一电容层的距离。通过在第一导体内侧设置一层物质层,可以使获得的第一电容值更为准确,从而使根据所述第一电容值获得的所述第一电容层的距离更为准确,提高了测量准确度。

附图说明

图1为本发明实施例中信息获取设备的主要结构图;

图2为本发明实施例中信息获取方法的主要流程图;

图3为本发明实施例中电容的示意图。

具体实施方式

本发明实施例中的信息获取设备包括检测装置,用于对第一电容层的电容值进行检测,获得第一电容值,其中,所述第一电容层中包括的第一导体的内侧设置有用于提高电容测量准确度的物质层;获取装置,用于根据所述第一电容值获得所述第一电容层的距离。通过在第一导体内侧设置一层物质层,可以使获得的第一电容值更为准确,从而使根据所述第一电容值获得的所述第一电容层的距离更为准确,提高了测量准确度。

参见图1,为本发明实施例中的信息获取设备,所述设备可以包括检测装置101和获取装置102。

检测装置101可以用于对第一电容层的电容值进行检测,获得第一电容值,其中,所述第一电容层中包括的第一导体的内侧设置有用于提高电容测量准确度的物质层。

本发明实施例中所述第一电容层可以是一电容,其中所述第一电容层可以包括所述第一导体,所述第一导体为所述第一电容层中的固定结构。例如所述第一导体可以是铜片、银片、金片、铝片等导体。

检测装置101可以与所述第一导体的外侧相连。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于联想(北京)有限公司,未经联想(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210222504.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top