[发明专利]波前修正设备、光刻设备以及方法

说明书

技术领域

本发明涉及光刻设备以及用于制造器件的方法，以及涉及波前修正设备。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底的目标部分上的机器。光刻设备可用于例如集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案，并且可以将该图案成像到具有一层辐射敏感材料(抗蚀剂)的衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，单一衬底将包括相邻目标部分的网络，所述相邻目标部分被连续地曝光。公知的光刻设备包括：所谓的步进机，在步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；和所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。

期望将图案从图案形成装置以高精确度投影到衬底上。投影到衬底上的图案的精确度部分依赖于用于投影图案的辐射的光学波前。光学波前离开其理想形状的偏离可以通过一个或多个波前像差表征。波前像差可以对通过光刻设备投影图案的精确度具有显著的影响。

在光刻设备中存在多种波前像差的源，包括例如不理想的光学元件(例如透镜)构成、光学元件性能随时间的偏移以及光学元件升温。因为波前像差通常存在于光刻设备中，因此期望能够以受控的方式减小一个或多个波前像差，由此允许提高光刻设备投影图案的精确度。

发明内容

期望提供例如新的波前修正设备，其克服或消除这里指出的或其他地方指出的现有技术的问题。

根据本发明一方面，提供一种波前修正设备，包括多个声波发射器，多个声波发射器配置成发射至少部分地行进跨过辐射束管道的声波。

多个声波发射器可以配置成以建立驻声波，所述驻声波至少部分地延伸跨过辐射束管道的驻声波。

多个声波发射器成对地设置，每一对的声波发射器彼此面对。

代替或附加面朝另一声波发射器，声波发射器可以面朝反射器。

一对声波发射器中的第一声波发射器配置成发射频率与一对声波发射器中的第二声波发射器发射的声波基本上相同的声波。

第一和第二声波发射器可以发射具有不同频率的声波，使得在它们之间建立行进的波。

多个声波发射器配置成用驻声波基本上填充辐射束管道的横截面。声波发射器可以配置成用驻声波基本上填满辐射束管道的横截面的部分。

波前修正设备还包括配置成控制由声波发射器发射的声波的频率和相位的控制器。

控制器可以配置成控制一对声波发射器，使得它们都发射具有基本上相同频率的声波。

控制器配置成启动或关闭所选择的声波发射器以便在辐射束管道内的期望位置处提供驻声波。

一个或多个声波发射器可以具有可调节的取向。控制器可以配置成控制一个或多个声波发射器的取向。

一个或多个声波发射器具有可调节的位置。控制器可以配置成控制一个或多个声波发射器的位置。

多个声波发射器可以设置在基本上相同的平面内。

根据本发明的一方面，提供一种光刻设备，包括支撑结构，用以支撑图案形成装置，所述图案形成装置用以在辐射束的横截面上给辐射束提供图案；衬底台，用以保持衬底；投影系统，用以将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；和这里所述的波前修正设备。

波前修正设备的声波发射器可以设置在光刻设备的投影系统和/或照射系统中，照射系统配置成调节辐射束并且朝向支撑结构传送所述束。

声波发射器位于光刻设备的光瞳平面内和/或场平面内。

声波发射器位于基本上垂直光刻设备的光学轴线的平面内。

声波发射器配置成发射频率与通过光刻设备的源或与光刻设备相关联的源产生的辐射脉冲的重复率相符的频率的声波或者发射频率为通过光刻设备的源或与光刻设备相关联的源产生的辐射脉冲的重复率的倍数的声波的声波。

声波发射器可以配置成发射频率与光刻设备的源或与光刻设备相关联的源产生的辐射脉冲的重复率相关或确定的声波。例如，可以选择频率，其针对不同辐射脉冲在不同的期望位置处提供声波的波腹。

控制器可以配置成接收辐射束的波前像差的测量值或预测值，以及确定将减小或消除辐射束的波前像差的驻声波结构。

声波发射器可以配置成在气体中建立驻声波。