[发明专利]波前修正设备、光刻设备以及方法

权利要求书

1.一种波前修正设备，包括多个声波发射器，所述多个声波发射器配置成发射至少部分地行进跨过辐射束管道的声波。

2.如权利要求1所述的波前修正设备，其中，所述多个声波发射器配置以建立驻声波，所述驻声波至少部分地延伸跨过辐射束管道。

3.如权利要求1或2所述的波前修正设备，其中，所述多个声波发射器成对地设置，每一对的声波发射器彼此面对。

4.如权利要求3所述的波前修正设备，其中，一对声波发射器中的第一声波发射器配置成发射频率与一对声波发射器中的第二声波发射器发射的声波基本上相同的声波。

5.如前述权利要求任一项所述的波前修正设备，其中，声波发射器配置成用驻声波基本上填满辐射束管道的横截面。

6.如前述权利要求任一项所述的波前修正设备，其中，波前修正设备还包括配置成控制由声波发射器发射的声波的频率和相位的控制器。

7.如权利要求6所述的波前修正设备，其中，所述控制器配置成启动或关闭所选择的声波发射器以便在辐射束管道内的期望位置处提供驻声波。

8.如前述权利要求任一项所述的波前修正设备，其中，多个声波发射器设置在基本上相同的平面内。

9.一种光刻设备，包括：

支撑结构，用以支撑图案形成装置，所述图案形成装置用以在辐射束的横截面上给辐射束提供图案；

衬底台，用以保持衬底；

投影系统，用以将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；和

如前述权利要求中任一项所述的波前修正设备。

10.如权利要求9所述的光刻设备，其中，波前修正设备的声波发射器能够设置在投影系统中和/或光刻设备的照射系统中，照射系统配置成调节辐射束并且朝向支撑结构传送所述束。

11.如权利要求9或10所述的光刻设备，其中，声波发射器位于光刻设备的光瞳平面内和/或场平面内。

12.如权利要求9至11任一项所述的光刻设备，其中，声波发射器位于基本上垂直光刻设备的光学轴线的平面内。

13.如权利要求9至12任一项所述的光刻设备，其中，声波发射器配置成发射具有与通过光刻设备的源或与光刻设备相关联的源产生的辐射脉冲的重复率相符的频率的声波或者发射频率为通过光刻设备的源或与光刻设备相关联的源产生的辐射脉冲的重复率的倍数的声波。

14.如引用权利要求6的权利要求9所述的光刻设备，其中，控制器配置成接收辐射束的波前像差的测量值或预测值，并且确定将减小或消除辐射束的波前像差的驻声波结构。

15.一种器件制造方法，包括下列步骤：

使用图案形成装置以在辐射束的横截面上给辐射束提供图案；

使用投影系统将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；和

使用多个声波发射器发射声波以建立声波，所建立的声波至少部分地行进跨过图案化的或未图案化的辐射束在入射到衬底之前所通过的辐射束管道。