[发明专利]形成天线的方法无效
申请号: | 201210205410.0 | 申请日: | 2012-06-20 |
公开(公告)号: | CN102842754A | 公开(公告)日: | 2012-12-26 |
发明(设计)人: | 杨忠谚 | 申请(专利权)人: | 晶钛国际电子股份有限公司 |
主分类号: | H01Q1/38 | 分类号: | H01Q1/38;H01Q1/50 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀纯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 形成 天线 方法 | ||
1.一种形成一天线的方法,其特征是,包含:
成型一载件本体;
喷镀一导电层于该载件本体上;以及
于该导电层定义出该天线的样态。
2.如权利要求1所述的方法,其特征是,成型该载件本体的步骤包含有:
成型具有一非平面表面的该载件本体。
3.如权利要求2所述的方法,其特征是,于该导电层定义出该天线的样态的步骤:
于该非平面表面上所喷镀的部分导电层定义出该天线的部分样态。
4.如权利要求2所述的方法,其特征是,该非平面表面为一曲面。
5.如权利要求1所述的方法,其特征是,该载件本体包含有与所形成的该天线电连接的至少一接触体。
6.如权利要求5所述的方法,其特征是,该载件本体另包含至少一通孔,使所形成的该天线穿过该通孔而与该接触体电连接。
7.如权利要求6所述的方法,其特征是,所形成的该天线穿过且封闭该通孔而与该接触体电连接。
8.如权利要求6所述的方法,其特征是,另包含:
使用一接着材质来封闭该通孔。
9.如权利要求1所述的方法,其特征是,于该导电层定义出该天线的样态的步骤包含:
以干蚀刻的方式来于该导电层上定义出该天线的样态。
10.如权利要求1所述的方法,其特征是,于该导电层定义出天线的样态的步骤包含:
以湿蚀刻的方式来于该导电层上定义出该天线的样态。
11.如权利要求1所述的方法,其特征是,于该导电层定义出天线的样态的步骤包含:
以剥离法来于该导电层上定义出该天线的样态。
12.如权利要求1所述的方法,其特征是,所形成的该天线的频率应用范围为200Hz至20GHz。
13.如权利要求1所述的方法,其特征是,另包含:
对所形成的该天线进行电镀、无电镀、喷镀或化学镀。
14.如权利要求1所述的方法,其特征是,另包含:
对所形成之该天线进行修整。
15.如权利要求1所述的方法,其特征是,对所形成的该天线进行修整的步骤包含:
进行一激光加工处理来修整所形成的该天线。
16.如权利要求15所述的方法,其特征是,该激光加工处理使用一激光雕刻技术。
17.如权利要求1所述之方法,其特征是,另包含:
对所形成之该天线进行一激光加工处理。
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