[发明专利]集成彩膜的阵列基板及其制造方法和液晶显示器有效
申请号: | 201210189873.2 | 申请日: | 2012-06-08 |
公开(公告)号: | CN102749752A | 公开(公告)日: | 2012-10-24 |
发明(设计)人: | 刘翔;薛建设 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02B5/20 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;赵爱军 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 集成 阵列 及其 制造 方法 液晶显示器 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示领域,尤其涉及集成彩膜的阵列基板及其制造方法和液晶显示器。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,简称TFT-LCD)具有体积小、功耗低、无辐射等特点,近年来得到了迅速地发展,在当前的平板显示器市场中占据了主导地位。它在各种大中小尺寸的产品上得到了广泛的应用,几乎涵盖了当今信息社会的主要电子产品,如液晶电视、高清晰度数字电视、电脑(台式和笔记本)、手机、PDA、GPS、车载显示、投影显示、摄像机、数码相机、电子手表、计算器、电子仪器、仪表、公共显示和虚幻显示等。TFT-LCD一般由液晶面板(LCD panel)、驱动电路以及驱动电路下方的背光源组成,其中液晶面板是TFT-LCD中最重要的部分,它是在两块玻璃基板之间注入液晶,四周用封框胶封上,在两玻璃板上分别贴敷偏振方向相互垂直的偏振片构成。其中一侧的玻璃板上有彩色滤光膜(Color Filter,CF),由红、绿、蓝(R、G、B)三原色亚像素构成像素,用来滤光;并在彩色滤色膜上镀上透明的公共电极,另一侧玻璃板为TFT阵列基板,在TFT阵列基板的玻璃板上镀有大量矩阵式排列的薄膜晶体管以及一些周边电路。
黑矩阵(Black Matrix)一般形成在TFT-LCD的CF上,在R、G、B三原色滤光片之间,其材料为不透光的材料,主要是用来遮住不打算透光的部分,如ITO的走线,或是TFT部分。现在市面上TFT-LCD在环境亮度较高的环境下,如在户外光照强度大或在冰雪环境中,会出现显示亮度低,对比度差,难读请显示的内容的情况。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种集成彩膜的阵列基板及其制造方法和液晶显示器,使得采用该集成彩膜的阵列基板的液晶显示器,在高光强的环境下仍具有较佳的可视性。
为解决上述技术问题,本发明的实施例提供技术方案如下:
一方面,本发明实施例提供一种集成彩膜的阵列基板,包括阵列基板主板,形成于所述阵列基板主板上的黑矩阵以及彩色滤光膜,所述集成彩膜的阵列基板还包括形成于所述彩色滤光膜之间的反光层,所述反光层位于所述黑矩阵之上。
进一步地,所述反光层的上表面为非平面。
进一步地,所述反光层的上表面为锯齿面或者为包括多个凹形、凸形或凹凸形的粗糙面。
进一步地,所述反光层的厚度为
进一步地,所述反光层为金属材质。
本发明实施例还提供了一种液晶显示器,包括如上所述的集成彩膜的阵列基板。
本发明实施例还提供了一种集成彩膜的阵列基板制造方法,包括:
在阵列基板主板上形成彩色滤光膜;
在各像素的所述彩色滤光膜之间形成黑矩阵;
在所述黑矩阵上形成反光层。
进一步地,所述在各像素的所述彩色滤光膜之间形成黑矩阵包括:
在形成有所述彩色滤光膜的阵列基板主板上以旋涂的方式涂敷一层厚度为的有机黑色树脂;
通过光刻工艺形成黑矩阵的图案。
进一步地,所述在所述黑矩阵上形成反光层包括:
在形成有所述彩色滤光膜和黑矩阵的阵列基板主板上通过溅射或热蒸发的方式形成一金属材料层;
通过光刻工艺形成反光层的图案,所述反光层的图案与黑矩阵的图案相对应。
进一步地,所述通过光刻工艺形成反光层的图案包括:
通过光刻工艺形成上表面为非平面的反光层的图案。
本发明实施例的集成彩膜的阵列基板、液晶显示器,在黑矩阵上还设置有反光层,利用反光层对外界光照的反射,能够提高液晶显示器的显示亮度,外界光照越强其显示亮度越高,使得在高光强的环境下液晶显示器仍具有较佳的可视性,而且不影响其开口率。本发明实施例提供的集成彩膜的阵列基板制造方法,基本可利用现有的制造工艺,方便集成彩膜的阵列基板和液晶显示器的生产。
附图说明
图1为本发明实施例集成彩膜的阵列基板的侧面示意图;
图2为本发明另一实施例集成彩膜的阵列基板的侧面示意图;
图3为本发明实施例集成彩膜的阵列基板制造方法的流程示意图;
图4为本发明实施例在阵列基板主板上形成彩色滤光膜后的侧面示意图;
图5为本发明实施例在阵列基板主板上形成黑矩阵后的侧面示意图。
具体实施方式
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