[发明专利]集成彩膜的阵列基板及其制造方法和液晶显示器

权利要求书

1.一种集成彩膜的阵列基板，包括阵列基板主板，形成于所述阵列基板主板上的黑矩阵以及彩色滤光膜，其特征在于，所述集成彩膜的阵列基板还包括形成于所述彩色滤光膜之间的反光层，所述反光层位于所述黑矩阵之上。

2.根据权利要求1所述的集成彩膜的阵列基板，其特征在于，所述反光层的上表面为非平面。

3.根据权利要求2所述的集成彩膜的阵列基板，其特征在于，所述反光层的上表面为锯齿面或者为包括多个凹形、凸形或凹凸形的粗糙面。

4.根据权利要求1或2所述的集成彩膜的阵列基板，其特征在于，所述反光层的厚度为

5.根据权利要求1或2所述的集成彩膜的阵列基板，其特征在于，所述反光层为金属材质。

6.一种液晶显示器，其特征在于，包括如权利要求1～5中任一项所述的集成彩膜的阵列基板。

7.一种集成彩膜的阵列基板制造方法，其特征在于，包括：

在阵列基板主板上形成彩色滤光膜；

在各像素的所述彩色滤光膜之间形成黑矩阵；

在所述黑矩阵上形成反光层。

8.根据权利要求7所述的集成彩膜的阵列基板制造方法，其特征在于，所述在各像素的所述彩色滤光膜之间形成黑矩阵包括：

在形成有所述彩色滤光膜的阵列基板主板上以旋涂的方式涂敷一层厚度为的有机黑色树脂；

通过光刻工艺形成黑矩阵的图案。

9.根据权利要求8所述的集成彩膜的阵列基板制造方法，其特征在于，所述在所述黑矩阵上形成反光层包括：

在形成有所述彩色滤光膜和黑矩阵的阵列基板主板上通过溅射或热蒸发的方式形成一金属材料层；

通过光刻工艺形成反光层的图案，所述反光层的图案与黑矩阵的图案相对应。

10.根据权利要求9所述的集成彩膜的阵列基板制造方法，其特征在于，所述通过光刻工艺形成反光层的图案包括：

通过光刻工艺形成上表面为非平面的反光层的图案。