[发明专利]介质处理装置有效

专利信息
申请号: 201210189728.4 申请日: 2012-06-08
公开(公告)号: CN102825918A 公开(公告)日: 2012-12-19
发明(设计)人: 关口孝久;丸尾卓也 申请(专利权)人: 株式会社御牧工程
主分类号: B41J11/00 分类号: B41J11/00;B41J11/66
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 介质 处理 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种对纸等介质进行绘图和切割等处理的介质处理装置。

背景技术

专利文献1中,记载有一种在滑架上所具有的笔保持件与笔收容用或切刀收容用箱(magazine)之间进行笔和切刀的交换的绘图装置。

并且,在专利文献2中,记载有一种对记录用纸进行绘图和切割的记录装置。在该记录装置中,在切刀模块中设有具有两个卡合部的卡合构件,一卡合部能够与笔模块相卡合,另一卡合部能够与安装于壳体的限制器相卡合,并能借助笔模块的动作来改变两个卡合部的卡合状态。即,能够同时对记录笔和切割笔进行保持,在使用切割笔时,将记录笔放置于笔容纳部。

专利文献1:日本特开平6-262899号公报(1994年9月20日公开)

专利文献2:日本特开平8-224993号公报(1996年9月3日公开)

在上述以往的技术中,需要对绘图用的笔和切刀中的至少一者进行拆卸的结构。然而,由于拆卸构造具有复杂且多零件的结构,因此使成本升高。并且,当采用拆卸构造时,滑架变大变重,需要具有较大驱动力的滑架驱动装置和较高承载性的滑架保持机构。另外,为了应对笔等工具的脱落和保持不良,需要用于确认工具是否得到可靠保持的部件和对应结构。

发明内容

因此,本发明是一种对纸等介质进行绘图和切割等多个处理的介质处理装置,其目的在于,提供一种不需要进行该多个处理部件的拆卸且构造简单的介质处理装置。

为了解决上述问题,本发明的介质处理装置是利用第一处理部件和第二处理部件对介质进行至少两种处理的介质处理装置,该介质处理装置的特征在于,该介质处理装置包括滑架,该滑架包括:第一保持部件,其用于保持上述第一处理部件;第二保持部件,其用于保持上述第二处理部件;距离改变部件,其在上述第一保持部件保持上述第一处理部件且上述第二保持部件保持上述第二处理部件的状态下,使该第一处理部件和第二处理部件中的一处理部件与上述介质之间的距离大于或小于另一处理部件与上述介质之间的距离。

采用上述结构,能够在同时保持两种处理部件的状态下,使该两种处理部件中的进行目标处理的一处理部件靠近介质而进行处理。即,不需要以往那样的用于更换不同处理部件的机构。因此,也不需要用于确认拆卸的部件和对应结构。因此,能够使整个滑架输送机构小型化。另外,也不需要为了应对处理部件的脱落和保持不良而确认工具是否得到可靠保持的部件,也不需要用于处理部件未得到可靠保持情况下的控制机构。

因此,能够提供构造简单的介质处理装置。

在本发明中,优选的是,上述距离改变部件通过使上述第一处理部件和上述第二处理部件中的一处理部件以某一旋转轴为轴进行旋转移动来改变该一处理部件与上述介质之间的距离。

例如,与使各处理部件分别独立地进行上下移动的构造等相比,本发明能够通过简单的构造来得以实现。即,仅通过使距离改变部件旋转就能对处理部件进行切换。因此,能够将介质处理装置设为更简单的构造。另外,能够使介质处理装置小型轻量化。另外,“某一旋转轴”是指,例如,如后述的实施方式,在距离改变部件具有轴部的情况下,将与轴部的长度方向垂直的线设为旋转轴线即可,从易于简化机构的观点来说,优选使该与轴部的长度方向垂直的直线穿过轴部。

在本发明中,也可以是,上述距离改变部件使一处理部件进行上述旋转移动,将另一处理部件固定在上述距离改变部件以外的构件上而不使另一处理部件进行旋转移动。

能够简化可动的部件的构造,且能够使介质处理装置更加小型轻量化。

在本发明中,更优选的是,上述滑架包括:上下位置控制部件,其用于控制上述第一处理部件和上述第二处理部件的上下位置;支承体,其用于对上述上下位置控制部件使上述第一处理部件和上述第二处理部件进行上下移动的力进行传递;上述支承体是供不进行旋转移动的上述另一处理部件固定的、上述距离改变部件以外的构件。

例如,通过将用于保持上述另一处理部件的保持部件固定在上述支承体上,从而将上述另一处理部件固定在上述支承体上。通过将上述另一处理部件固定在上述支承体上,能够从上述上下位置控制部件直接施加供该处理部件按压介质的力,并能够提高加工精度。另外,不需要另行设置该处理部件的保持构件,能够以简单机构实现轻量化。

在本发明中,也可以是,上述距离改变部件使上述第一处理部件和上述第二处理部件都进行旋转移动,该旋转移动是如下的移动,即,在上述第一处理部件靠近上述介质时,使上述第二处理部件远离上述介质,在上述第二处理部件靠近上述介质时,使上述第一处理部件远离上述介质。

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