[发明专利]介质处理装置

权利要求书

1.一种介质处理装置，其利用第一处理部件和第二处理部件对介质进行至少两种处理，该介质处理装置的特征在于，

该介质处理装置包括滑架，该滑架包括：

第一保持部件，其用于保持上述第一处理部件；

第二保持部件，其用于保持上述第二处理部件；

距离改变部件，其在上述第一保持部件保持上述第一处理部件且上述第二保持部件保持上述第二处理部件的状态下，使该第一处理部件和第二处理部件中的一处理部件与上述介质之间的距离大于或小于另一处理部件与上述介质之间的距离。

2.根据权利要求1所述的介质处理装置，其特征在于，

上述距离改变部件通过使上述第一处理部件和上述第二处理部件中的一处理部件以某一旋转轴为轴进行旋转移动来改变该一处理部件与上述介质之间的距离。

3.根据权利要求2所述的介质处理装置，其特征在于，

上述距离改变部件使一处理部件进行上述旋转移动，

将另一处理部件固定在上述距离改变部件以外的构件上而不使另一处理部件进行旋转移动。

4.根据权利要求3所述的介质处理装置，其特征在于，

上述滑架包括：

上下位置控制部件，其用于控制上述第一处理部件和上述第二处理部件的上下位置；

支承体，其用于对上述上下位置控制部件使上述第一处理部件和上述第二处理部件进行上下移动的力进行传递；

上述支承体是供不进行旋转移动的上述另一处理部件固定的、上述距离改变部件以外的构件。

5.根据权利要求2所述的介质处理装置，其特征在于，

上述距离改变部件使上述第一处理部件和上述第二处理部件都进行旋转移动，该旋转移动是如下的移动，即，在上述第一处理部件靠近上述介质时，使上述第二处理部件远离上述介质，在上述第二处理部件靠近上述介质时，使上述第一处理部件远离上述介质。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的介质处理装置，其特征在于，

上述滑架在介质上进行往复移动，

上述距离改变部件包括两个开关，通过按压一开关来使一处理部件与上述介质之间的距离小于另一处理部件与上述介质之间的距离，通过按压另一开关来使该一处理部件与上述介质之间的距离大于该另一处理部件与上述介质之间的距离，

在当上述滑架利用上述往复移动到达一端时一开关被按压的位置处设有用于按压一开关的第一突出部，在当上述滑架到达另一端时另一开关被按压的位置处设有用于按压另一开关的第二突出部。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的介质处理装置，其特征在于，

上述滑架包括对上述第一处理部件和上述第二处理部件的上下位置进行控制的上下位置控制部件，

上述上下位置控制部件在将上述第一处理部件向上述介质按压时与将上述第二处理部件向上述介质按压时，对将上述第一处理部件和上述第二处理部件中的、靠近上述介质的一处理部件按压到上述介质上的力进行改变。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的介质处理装置，其特征在于，

上述第一处理部件和上述第二处理部件中的一处理部件用于在上述介质上进行绘图，另一处理部件用于切割上述介质。