[发明专利]曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种曝光装置，更具体而言，涉及能够以接触方式和接近方式这两种曝光方法使用的曝光装置。

背景技术

目前，在制造液晶显示面板的彩色滤光片和半导体晶片的曝光装置中，使形成有图案的掩模与基板的主表面相对接近，在基板的主表面上，对图案进行曝光。例如，作为这样的曝光装置，可举出使基板与掩模密合的接触方式的装置、和在基板与掩模之间形成数十微米的间隙来配置掩模与基板的接近方式的装置等。

然而，当对基板使用这样的曝光装置时，在对基板使用时，有时会产生无法预料的问题。即，在使用上述接触方式的情况下，当基板与掩模接触时，会出现基板破裂的情形。另一方面，即使是接近方式的曝光装置，也会出现基板与掩模接触的情形，与上述接触方式的情形一样，同样可能发生基板的破裂。

即，当使掩模与基板相对接近时，掩模与基板接触，使它们进一步接近的按压力将集中施加在基板的与掩模接触的部分，因此会导致应力集中，最终使基板破裂。

另外，作为以往的曝光装置，提出了一种具备用于对半导体晶片与掩模接触时掩模施加于半导体晶片的按压力进行缓冲的缓冲机构的曝光装置（例如，参照专利文献1）。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2002-299208号公报

发明内容

发明要解决的课题

在专利文献1中记载的曝光装置中，是一种利用步进电机驱动基板的接触式曝光装置，并没有考虑与接近方式的兼用。

本发明的目的在于提供一种曝光装置，其是能够应用于基板上制造彩色滤光片和光取向膜的光刻工序中所采用的接触方式和接近方式这两种曝光方式的曝光装置，能够防止或降低掩模与基板之间产生的按压力，从而防止或抑制基板的破裂。

本发明的上述目的，通过下述方式实现。

（1）一种曝光装置，包括：用于保持形成有图案的掩模的掩模保持架；固定该掩模保持架的掩模载置台；沿上下方向驱动该掩模载置台的掩模上下驱动机构；用于保持基板的基板载置台；沿上下方向驱动该基板载置台的基板上下驱动机构；和借助上述掩模向上述基板照射曝光用光的照明光学系统，上述曝光装置使上述掩模与上述基板的主表面相对接近，能够以用于将上述图案转印到上述基板的主表面而使用的接近方式和接触方式这两种方式进行曝光，其特征在于：

在上述掩模保持架和上述基板载置台的其中一方上，设有多个配置在上述掩模或上述基板的周围，并能够调节自身长度的间隙限制机构，

当上述掩模与上述基板之间的间隙变成预期的间隙时，上述间隙限制机构与上述掩模保持架和上述基板载置台中的另一方抵接。

其中，在此所述的预期的间隙在接触方式的情况下是0。

（2）上述（1）中所述的曝光装置，其特征在于：

具备破裂防止机构，该破裂防止机构配置在上述掩模载置台与掩模侧基体之间、或上述基板载置台与基板侧基体之间中的至少一方，用于缓冲或避免上述掩模与上述基板接触时所产生的按压力。

（3）上述（2）中所述的曝光装置，其特征在于：

上述破裂防止机构具有缓冲部件，该缓冲部件基于弹性变形来缓冲上述按压力。

（4）上述（3）中所述的曝光装置，其特征在于：上述缓冲部件为弹簧。

发明效果

根据本发明的曝光装置，在掩模保持架和基板载置台的其中之一上，设有多个配置在掩模或基板的周围，并能够调节自身长度的间隙限制机构，当掩模与基板之间的间隙变成预期的间隙时，间隙限制机构与掩模保持架和基板载置台中的另一方抵接。因此，由于在能够兼用接触方式和接近方式的曝光装置中，使掩模与基板相对接近，当掩模与基板之间的间隙变成预期的间隙时，间隙限制机构与掩模保持架和基板载置台中的另一方抵接，所以能够防止或降低掩模与基板之间产生的按压力，从而防止或抑制基板的破裂。

附图说明

图1是本发明的曝光装置的示意图。

图2是表示以接触方式使用本发明的曝光装置时的间隙限制机构的状态的示意图。

图3是表示以接近方式使用本发明的曝光装置时的间隙限制机构的状态的示意图。

图4是表示本发明的曝光装置的变形例的示意图。

符号说明

100  曝光装置

M    掩模

W    基板

W1   基板的主表面

11   掩模保持架

12   基板载置台

13   掩模载置台

14   装置主体