[发明专利]曝光装置

权利要求书

1.一种曝光装置，包括：用于保持形成有图案的掩模的掩模保持架；固定所述掩模保持架的掩模载置台；沿上下方向驱动所述掩模载置台的掩模上下驱动机构；用于保持基板的基板载置台；沿上下方向驱动所述基板载置台的基板上下驱动机构；和借助所述掩模向所述基板照射曝光用光的照明光学系统，所述曝光装置使所述掩模与所述基板的主表面相对接近，能够以用于将所述图案转印到所述基板的主表面而使用的接近方式和接触方式这两种方式进行曝光，其特征在于，

在所述掩模保持架和所述基板载置台中的其中一方上，设有多个配置在所述掩模或所述基板的周围，并能够调节自身的长度的间隙限制机构，

当所述掩模与所述基板之间的间隙变成预期的间隙时，所述间隙限制机构与所述掩模保持架和所述基板载置台中的另一方抵接。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：

具备破裂防止机构，所述破裂防止机构配置在所述掩模载置台与掩模侧基体之间、或所述基板载置台与基板侧基体之间中的至少一方，用于缓冲或避免所述掩模与所述基板接触时所产生的按压力。

3.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于：

所述破裂防止机构具有缓冲部件，所述缓冲部件基于弹性变形来缓冲所述按压力。

4.如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于：

所述缓冲部件为弹簧。