[发明专利]彩色滤光片基板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，具体涉及一种彩色滤光片基板及其制造方法。

背景技术

在液晶面板制程中，对位标志（mark）具有重要作用，当需要进行位置确认和座标计算时，需要读取对位标志的位置。例如，进行精密量测仪器座标定位和曝光机曝光对位时，需要读取对位标志的位置；在液晶面板对组制程时，亦需要通过对位标志对有源阵列基板和彩色滤光片基板的对组位置进行确认。

请参阅图1，图1是现有彩色滤光片基板上对位标志的设置示意图。

如图1所示，现有技术中，彩色滤光片基板的透明基板10上包括有多个像素有效区100和环绕像素有效区100设置的像素无效区101。其中，在像素无效区101上设有黑色矩阵图案作为对位标志1010，且对位标志1010的形状可设置为如图1中所示的方形或交叉的十字形。

请参阅图2，图2是图1中像素无效区101的部分剖面示意图，透明基板10的像素无效区101上覆盖有透明导电层120，且对位标志1010及对位标志1010周边区域上均被透明导电层120全部覆盖，即：透明导电层120在对位标志1010及对位标志1010周边区域上的覆盖特性相同。

在采用CCD（Charge-coupled Device，电荷耦合元件）光学读取镜头来读取对位标志1010的位置时，由于透明导电层120在对位标志1010及对位标志1010周边区域上的覆盖特性相同，不具有光学差异性，因此导致CCD光学读取镜头在读取对位标志1010时的成功率不高，甚至读取失败，由此引起制程的位置计算精度偏移或是降低设备稼动率，导致生产效率和产能偏低。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种彩色滤光片基板及其制造方法，以提高CCD光学读取镜头读取对位标志的成功率。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种彩色滤光片基板的制造方法，包括步骤：在透明基板的像素无效区形成黑色矩阵图案以形成对位标志；在该像素无效区上涂覆透明导电层以覆盖该对位标志；对该透明导电层进行图案化处理，使得该透明导电层在该对位标志与该对位标志的周边区域上的覆盖特性相异。

其中，对该透明导电层进行图案化处理，以露出该对位标志，并保留该对位标志的周边区域上覆盖的该透明导电层。

其中，对该透明导电层进行图案化处理，以露出该对位标志的周边区域的像素无效区，并保留该对位标志上覆盖的该透明导电层。

其中，对该透明导电层进行图案化处理，以露出紧邻该对位标志的周边区域上的像素无效区，并保留该对位标志和远离该对位标志的周边区域上覆盖的该透明导电层。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种彩色滤光片基板，该彩色滤光片基板包括透明基板、黑色矩阵图案以及透明导电层。该透明基板包括像素无效区；该黑色矩阵图案设于该像素无效区以形成对位标志；该透明导电层设置于该像素无效区上，且在该像素无效区中该对位标志与该对位标志的周边区域上的该透明导电层的覆盖特性相异。

其中，该对位标志的上未覆盖该透明导电层，该对位标志的周边区域上覆盖该透明导电层。

其中，该对位标志的上部分覆盖有该透明导电层，该对位标志的周边区域上覆盖有该透明导电层。

其中，该对位标志上覆盖该透明导电层，该对位标志的周边区域上未覆盖该透明导电层。

其中，该对位标志上覆盖该透明导电层，该像素无效区除对位标志外的其他周边区域上均未覆盖该透明导电层。

其中，该对位标志和远离该对位标志的周边区域上覆盖该透明导电层，紧邻该对位标志的周边区域上未覆盖该透明导电层。

本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明通过对透明导电层进行图案化处理，使得透明导电层在对位标志上与对位标志周边区域上的覆盖特性相异，从而增强对位标志与其周边区域在CCD光学读取镜头下的光学差异性，提高CCD光学读取镜头读取对位标志的成功率，进而有效地提高制程的位置计算精度和设备稼动率，提高生产效率和产能。

附图说明

图1是现有彩色滤光片基板上对位标志的设置示意图；

图2是图1中像素无效区的部分剖面示意图；

图3是具有本发明彩色滤光片基板的液晶面板的结构示意图；

图4是本发明彩色滤光片基板第一实施例的结构示意图；

图5是本发明彩色滤光片基板第二实施例的像素无效区的结构示意图；

图6是图5的俯视图；

图7是本发明彩色滤光片基板第三实施例的结构示意图；