[发明专利]彩色滤光片基板及其制造方法有效
| 申请号： | 201210176512.4 | 申请日： | 2012-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN102707486A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 伍浚铭 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02B5/20 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 何青瓦;丁建春 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明新区公*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 彩色 滤光 片基板 及其 制造 方法 | ||
1.一种彩色滤光片基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：
在透明基板的像素无效区形成黑色矩阵图案以形成对位标志；
在所述像素无效区上涂覆透明导电层以覆盖所述对位标志；
对所述透明导电层进行图案化处理，使得所述透明导电层在所述对位标志与所述对位标志的周边区域上的覆盖特性相异。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：
对所述透明导电层进行图案化处理，以露出所述对位标志，并保留所述对位标志的周边区域上覆盖的所述透明导电层。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：
对所述透明导电层进行图案化处理，以露出所述对位标志的周边区域的像素无效区，并保留所述对位标志上覆盖的所述透明导电层。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：
对所述透明导电层进行图案化处理，以露出紧邻所述对位标志的周边区域上的像素无效区，并保留所述对位标志和远离所述对位标志的周边区域上覆盖的所述透明导电层。
5.一种彩色滤光片基板，其特征在于，包括：
透明基板，包括像素无效区；
黑色矩阵图案，设于所述像素无效区以形成对位标志；
透明导电层，设置于像素无效区上，且在所述像素无效区中所述对位标志与所述对位标志的周边区域上的所述透明导电层的覆盖特性相异。
6.根据权利要求5所述的彩色滤光片基板，其特征在于：所述对位标志的上未覆盖所述透明导电层，所述对位标志的周边区域上覆盖所述透明导电层。
7.根据权利要求5所述的彩色滤光片基板，其特征在于：
所述对位标志的上部分覆盖有所述透明导电层，所述对位标志的周边区域上覆盖有所述透明导电层。
8.根据权利要求5所述的彩色滤光片基板，其特征在于：所述对位标志上覆盖所述透明导电层，所述对位标志的周边区域上未覆盖所述透明导电层。
9.根据权利要求8所述的彩色滤光片基板，其特征在于：所述对位标志上覆盖所述透明导电层，所述像素无效区除对位标志外的其他周边区域上均未覆盖所述透明导电层。
10.根据权利要求8所述的彩色滤光片基板，其特征在于：所述对位标志和远离所述对位标志的周边区域上覆盖所述透明导电层，紧邻所述对位标志的周边区域上未覆盖所述透明导电层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司，未经深圳市华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210176512.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种新结构晶体硅太阳电池及其制备方法
- 下一篇：轨道交通用空压机逆止进气阀
