[发明专利]配向膜制造装置有效

专利信息
申请号: 201210176480.8 申请日: 2012-05-31
公开(公告)号: CN102707500A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 余少鑫 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 何青瓦;丁建春
地址: 518000 广东省深圳市光明新区公*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 制造 装置
【权利要求书】:

1.一种配向膜制造装置,包括发热板、涂覆基板和支撑架,所述涂覆基板设置在所述发热板上方,其特征在于:所述支撑架为可移动支架,其包括支撑部和驱动单元,所述支撑部支撑所述涂覆基板,所述驱动单元带动所述支撑部移动至预设位置。

2.根据权利要求1所述的配向膜制造装置,其特征在于:所述支撑部为热的不良导体。

3.根据权利要求2所述的配向膜制造装置,其特征在于:所述支撑部由聚四氟乙烯材料制成。

4.根据权利要求2所述的配向膜制造装置,其特征在于:所述支撑部相对所述发热板的底面包括金属反射层,所述金属反射层位于所述涂覆基板和所述发热板之间。

5.根据权利要求1所述的配向膜制造装置,其特征在于:所述涂覆基板远离所述支撑部的表面设置有多个配向膜溶液涂覆区域,所述支撑部与所述涂覆基板的抵接位置对应于所述配向膜溶液涂覆区域周边的非配向膜溶液涂覆区域的位置。

6.根据权利要求1所述的配向膜制造装置,其特征在于:所述配向膜制造装置包括多个支撑架,所述多个支撑架的多个驱动单元之间相互独立。

7.一种配向膜制造装置,包括发热板、涂覆基板和支撑架,所述涂覆基板的第一表面包括配向膜溶液涂覆区域,所述发热板提供热辐射给所述涂覆基板,其特征在于:所述支撑架支撑所述涂覆基板的相对于所述第一表面的第二表面,所述支撑架根据所述配向膜溶液涂覆区域的位置变化,对应移动其与所述第二表面的支撑位置,所述支撑位置对应于所述配向膜溶液涂覆区域的周边非配向膜溶液涂覆区域的位置。

8.根据权利要求7所述的配向膜制造装置,其特征在于:所述支撑架包括支撑所述涂覆基板的支撑部,所述支撑部由聚四氟乙烯材料制成。

9.根据权利要求8所述的配向膜制造装置,其特征在于:所述支撑部相对所述发热板的底面包括金属反射层,所述金属反射层位于所述涂覆基板和所述发热板之间。

10.根据权利要求7所述的配向膜制造装置,其特征在于:所述配向膜制造装置包括多个支撑架,所述多个支撑架分别包括多个相互独立的驱动单元,所述多个驱动单元分别带动所述多个支撑架移动至预设位置。

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