[发明专利]高折射率散射层的制备方法及高出光效率的OLED制备方法

权利要求书

1.一种高折射率散射层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、制备研磨分散液，所述研磨分散液包括：

高折射率散射颗粒，其质量百分比为：10%-60%；

分散剂，其质量占所述高折射率散射颗粒的1%-60%；

防沉剂，其质量百分比为：0-5%；

光刻胶，其质量百分比为：0-60%；

有机溶剂，其质量百分比为：20%-89.9%；

S2、采用过滤孔孔径在0.8um-1.2um的滤纸压滤所述步骤S1制备的研磨分散液，得到制膜溶液；

S3、所述步骤S2制备的所述制膜溶液经光刻旋涂制备得到高折射率散射层。

2.根据权利要求1所述的高折射率散射层的制备方法，其特征在于：

所述高折射率散射颗粒选自TiO₂、ZrO₂、SiO₂、SiO、TiO中的一种。

3.根据权利要求1或2所述的高折射率散射层的制备方法，其特征在于：

所述分散剂采用钛白分散剂。

4.根据权利要求1-3任一所述的高折射率散射层的制备方法，其特征在于：

所述防沉剂采用钛白防沉剂。

5.根据权利要求1-4任一所述的高折射率散射层的制备方法，其特征在于：

所述步骤S2所述滤纸孔径为0.8um。

6.根据权利要求1-5任一所述的高折射率散射层的制备方法，其特征在于：

所述散射层的厚度为0.3um-3um。

7.一种利用权利要求1-6任一所述的高折射率散射层的制备方法制备得到的高折射率散射层。

8.一种高出光效率的OLED制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

Ⅰ.按照权利要求1-6任一所述的制备高折射率散射层的制备方法在基板（1）上制备高折射率散射层（2）；

Ⅱ.在所述高折射率散射层（2）上制备第一电极（3）；

Ⅲ.在所述第一电极（3）上制备有机功能层（4）；

Ⅳ.在所述有机功能层（4）上制备第二电极（5）；

Ⅴ.封装。

9.根据权利要求8所述的高出光效率的OLED制备方法，其特征在于：

所述步骤Ⅰ之后还包括如下步骤

：刻蚀去掉封装时与封装胶（6）对应区域的高折射率散射层。

10.根据权利要去8所述的高出光效率的OLED制备方法，其特征在于：

所述步骤中，刻蚀去掉封装时与封装胶（6）对应区域之外的所有的高折射率散射层。