[发明专利]接近式曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种接近式曝光装置，更具体而言，涉及适用于将掩模图案曝光转印在例如液晶显示器或等离子显示器等大型平板显示器等的基板上的接近式曝光装置。

背景技术

接近式曝光是将表面涂敷有感光剂的透光性基板（被曝光件）保持在曝光装置的工作台（work stage）上，同时使该基板与保持在掩模装载台的掩模保持框中的掩模接近，使两者的间隙为例如数十微米～数百微米，利用照射装置，从掩模的与基板呈相反侧的一侧，向掩模照射曝光用光，由此将绘制在掩模上的图案曝光转印到基板上的技术。

另一方面，尽管在接近式曝光中存在着使掩模与基板大小相同以集中进行曝光的方式，但在这样的方式中，在将掩模的图案曝光转印到大型基板上时，掩模大型化，将因掩模的挠曲而对图案的精度造成影响，或在成本等方面发生问题。鉴于该状况，在现有技术中，当在大型基板上进行掩模图案的曝光转印时，有时会采用所谓步进式的接近式曝光方式，即，采用比基板小的掩模，使工作台相对于掩模步进移动，每移动一步，就在掩模与基板接近配置的状态下，照射图案曝光用光，由此将绘制在掩模上的多个图案曝光转印到基板上的方式。用于保持基板的工作台由电机驱动，相对于掩模执行相对步进移动。

基板的曝光精度在受工作台的移动精度的影响的同时，也受到基板温度的极大影响。作为使工作台移动的工件驱动部，以往，有利用进给丝杠机构将DC伺服电机等的旋转运动变换为直线运动的装置，但也存在着因进给丝杠的磨损或传送不稳等而达不到足够的位置精度的情况，因此，为了因应近年的进一步高精度化，也有采用直线电动机的方案。然而，在采用直线电动机的情况下，来自直线电动机的发热将导致工作台的温度升高，由工作台保持的基板的温度也随之升高。直线电动机存在着运行期间与停机期间之间的温度差大，从工作台传来的热量导致基板膨胀或收缩，或者产生局部温度不均，对曝光的精度造成极大的影响等问题。

为了解决这样的热性能问题，公开了一种精密移动工作台，其在设有用于冷却直线电动机的定子的冷却装置的同时，还在直线电动机的转子和基座上分别设置温度传感器，通过将基座和直线电动机的温度差控制为零，从而使得因直线电动机的发热而产生于基座上的温度分布实现稳定化（例如，参照专利文献1）。此外，已知还有如下的曝光装置：其在激光干涉仪的反射镜及其支承部上设置通气孔，利用通气装置使空气流过通气孔，以减少随装载台的温度上升而产生的激光干涉仪的位置测量误差、和随装载台的移动而产生的因空气扰动而导致的位置测量误差（例如，参照专利文献2）。

专利文献

专利文献1：日本特开平1-195389号公报

专利文献2：日本特开平5-6850号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，专利文献1所公开的精密移动工作台尽管能够消除基座与直线电动机之间的温度差，但是，当致冷剂的温度过高或过低时，存在着基板因该热量而发生膨胀或收缩，从而影响基板的曝光精度的可能性。此外，专利文献2的曝光装置是通过使空气流过通气孔以抑制激光干涉仪的反射镜的温度的升高，从而实现位置测量误差的降低的装置，但由于未对工作台的温度进行管理，因此有可能产生因基板的膨胀或收缩导致的曝光不均。

本发明鉴于上述课题而做出，其目的在于，提供一种能够对致冷剂的温度进行管理，使得从直线电动机传递到基板的热量一定，并能够抑制由于基板的膨胀、收缩引起的对曝光精度的影响的接近式曝光装置。

解决课题的手段

本发明的上述目的通过下述结构而得以实现。

（1）一种接近式曝光装置，其特征在于，具有：

掩模保持部，其保持具有需要曝光的图案的掩模；

工件保持部，其保持作为被曝光件的工件；

工件驱动部，其驱动上述工件保持部；和

借助上述掩模向上述工件照射图案曝光用光的照射单元，

在上述掩模和上述工件互相接近并以规定的曝光间隙对向配置的状态下，将上述掩模的图案曝光转印到上述工件上，

上述工件驱动部是具有定子和与上述定子对向配置的转子的直线电动机，并具有：

沿上述转子配置的转子侧致冷剂循环通路；

向上述转子侧致冷剂循环通路循环供给致冷剂的转子侧致冷剂供给装置；和

配置在上述转子侧致冷剂循环通路的入口和出口，用于检测上述转子侧致冷剂循环通路的入口附近和出口附近的上述致冷剂的温度的温度传感器，